Способ базирования призматической детали

(57) Изобретработки матеспособам баз БАЗИРОВАНИЯ ПРИЗМЕТАЛИние относится к оиалов резанием, арования призмати бласти об именно к ческих де-У Фиг. 2 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ(71) Куйбышевский ордена ТрудовогоКрасного Знамени политехнический институт им. В, В. Куйбышева(56) Авторское свидетельство СССР1085747, кл. В 23 (;) 3/06, 1982. талеи, и является дополнительным к авт. св.1085747. Изобретение позволяет повысить точность базирования призматической детали путем уменьшения линейных составляющих погрешности базирования. Устройство для реализации предложенного способа базирования содержит корпус 1 с базирующими элементами 2 и 4, каждый из которых состоит из двух частей; основа/ / иния 2, 4 и опорного элемента 2, 4 . Деталь 5 с поверхностями А, (Аз) устанавливается на опорные элементы 2 ф, 4" и поворачивается вокруг осей у - 1. Расстояние аз(а ) от оси поворота Х - Х базирующего элемента 2 до рабочей поверхности Пз смежного базирующего элемента 2 определяется по определенной зависимости. 3 ил,1269968 формула изобретения 45 ЯьТ Изобретение относится к обработке материалов резанием, а именно к способам базирования призматических деталей при механической обработке, контроле и сборке, и является дополнительным к авт.св.1085747.Целью изобретения является повышение точности базирования призматической детали путем уменьшения линейных составляющих погрешности базирования.На фиг. 1 изображена принципиальная схема способа базирования призматической детали; на фиг. 2 - устройство для реализации способа базирования, продольный разрез; на фиг. 3 - то же, поперечный разрез.Устройство для базирования призматической детали содержит корпус 1, на котором размешены базируюшие элементы(горизонтальный 2, вертикальный 3 и боковой 4), каждый из которых состоит из двух частей: основания 2 (3, 4 ), неподвижно установленного на корпусе 1 и выполненного в виде срезанного цилиндра (или двух срезанных сфер) и охватывающего основание опорного элемента 2 (3 ф, 4") с рабочей поверхностью П 1 (П, Пз). При этом опорный элемент 2" (3", 44) установлен с возможностью поворота относительно цилиндрической (или сферической) поверхности основания 2(3, 4) в системе координат Хь 1)нов 2 . Оси х - х, у - у, г - г, проходящие через опорные точки детали 5, параллельны соответствующим осям координат Хв, Ув. Хь и находятся на расстояниях а(а а 7 а) от рабочих плоскостей Г 1; (П П Пз) опорных элементов 2", 3 ф и 4". Деталь 5 имеет базируюшие поверхности А(Аь А 7, Аз) и габаритные размеры Нс (Н,Н, Н).Расстояние а; рассчитывается по зави- симости а, =7ут мгде Ь,-расстояние от оси поворота базируюгцего элемента до рабочей поверхности смежного базируюшего элемента в исходном состоянии; где- угол дополнительного поворотабазируюшего элемента;Тр - допустимая величина погрешностирасположения базирующей поверхности детали;Л - габаритный размер детали. Базирование призматической детали 5осуществляется следующим образом.Деталь 5 одной из своих поверхностей А 1 перемешается на горизонтальный базовый элемент 2 до контакта ее с плоскостью Попорного элемента 2, чем лишаютфдеталь 5 двух степеней свободы: поворота вокруг оси ОвУа и прремещения вокруг оси Оров. Затем перемешают деталь 5 по плоскости П. Она разворачивается вокруг оси 10х - х до момента полного соприкосновения второй поверхностью А г с плоскостью П опорного элемента 3 вертикального базо 0вого элемента 3, чем лишает деталь 5 еще двух степеней свободы: перемешения вдоль оси ОУ и поворота вокруг оси ОвХВ.После этого деталь 5 досылается до базового элемента 4 с разворотом ее относительно оси г.г. и с обеспечением контакта ее поверхности Аз с плоскостью Пз опорного элемента 4, чем лишают деталь 5 двух оставшихся1120 степеней свободы: перемещения вдоль осиОХ и поворота вокруг оси 02.Таким образом, деталь 5 лишена всехшести степеней свободы. Способ базирования призматической детали по авт. св.1085747, отличающийся 30 тем, что, с целью повышения точности базирования, дополнительный поворот детали производят относительно осей, удаленных от рабочих поверхностей базовых элементов в сторону, противоположную соответствующим им поверхностям базируемой детали, на расстояние а определяемое по следуюшей зависимости: 40 где Ь - расстояние от оси поворота базирующего элемента до рабочей поверхности смежного базируюшего элемента в исходном положении; где сЦ-угол дополнительного поворота базируюшего элемента;Тр - допустимая величина погрешности 50 расположения базирующей поверхности детали;Н-габаритный размер детали.1269968 г 2 льА.НВерес имокосов ного ений Рау Ужго Составит Техред И Тираж 82ВНИИПИ Государствепо делам изобре 113035, Москва, Ж - 35 илиал ППП Патентэ, г. едактор М. Келемеша к аз 6080/11 икифоровКорректор АПодписноекомитета СССРи открытийшская на 6., д. 4/5од, ул. Проектная,