ZIP архив

Текст

,СОЦИАЛИСТИЧЕСКИРЕСПУБЛИК 19) (11) 6209 А 1) С 03 С 3/1 ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И (ЛН АНИЕ ИЗОБРЕТЕНСНОМУ СЮИДВТВЪСТВУ К АВТОР ТЕКЛО, вклвчав(а3, ВаО, о т лтем, .что, сэии стекла ко дополнитель1:аО при следомпонентов, ма(71) Белорусский ордена ТрудоКрасного Знамени политехничесинститут(56) 1. Авторское свидетельстпо заявке Ю 3289817/29-33,кл. С 03 С 3/10, 1981.2, Авторское свидетельствопо заявке В 3398305/29-33,кл. С 03 С 3/10, 1981 (протот е ЫО чав ьв улуч ннатно содерем соо ф 1 н н ог ий с йО В О . А 18 ВаО БпОСаО 43-45 15-17 9-10 25-27 1-2 2-3 и).16,0 15,0 17,0 9,7-13,5 10,0-10)5 28,7-29,9 10,0 10,0 9,0 27,0 ВаО 250 26,0 3,0 2,0 30 СаО 1,0 БпО,2,0 2,0 1500 150.0 1500 1300 1300 1300 1300. Температура размягчения, С 6.80+ 2 О 670+10 670+10 67.ОИ О 800110800+10 820 800+10 Изобретение относится к техноло 0гии силнкатов и предназначается для,использования его в электронике икачестве износостойкого диэлектрикав микросхемахспециального назначе-ния.Известно стекло, содержащее,мас. Ъ: Я 102 45,5-47,5; АУО 9,410,3, В 203 6,0-7,0; ВаО .35,2-39,113.Это стекло иэ-за повышенных значений коэффИциента теплового расширения и температуры. размягчения .при Формировании рельефа .на подложках иэ стекла СТс КУР 521(Г 7 град "не позволяет. получать покрытие беэтрещин и деформации ситалловой под"ложки при обжиге покрытия,Наиболее близким к изобретению,является стекло, включающее, мас.Ф.Я 10 47, 8-49, 9; В 990 9, 7-13., 5; .АВф 2 100-10,9; Ва 0 28,7-29,9 12 Х 20данное стекло ло основным Физи-.ко-химическим свойствам удовлетворяет требованиям для получения созме.стимого с ситалловой подложкой изСТпроплавленнога при 800 С." 25.стеклообразного покрытия.Однако из-за .низкой адгезии это-.го стекла к станнатной пленке, которая должна наноситься иа сформи-. Температура варки, С 1500 Температура вырабст"кки, С Температура получения ,проплавленндго покры-. .тия, С рованное по ситалллу стеклообраэноепокрытие, обраэует слабое .сцепле-,ние с укаэанной пленкой и вследствие этого не может быть использова- .но в качестве материала рельефа в паре со Яп 02 припроизводстве микросхем спецназначения,Цель изобретения - улучшение адгезии стекла к станнатной пленкеПоставленная цель достигаетсятем, что, стекло, включающее Я 10.9ВОЭ, АЮОЗ, ВаО, дополнительно содержит ЯпО и СаО приследующем соот .ношении компонентов, мас. Ъ:Я 10943-45.ВОз. 15-17АЯ,О 9-10ВаО25-27Японо 1-2СаО 2-3 Введение ЯпО и СаО позволяет улучшить адгезию стеклак стаинат,- ной пленке за счет увеличения хими ческого сродства между оловосодераа жащим стеклом и пленкой из ЯпОй иснижения его вязкости с помощью До бавки СаО.конкретные составы стекол и их свойства представлены в таблице,1046209 Продолжение таблицы Прототип Н аимен овани е компонентов и свойства Состав, мас.Ъ Кристаллизационнаяспособность, С4.Йе кристаллиэуются Коэффициент теплового расширения е( 10град50+1 48+1 50+1 50+1 10 ф 4.10 Химическая устойчивость потери массы)по отношению к с0,12 0.,04-0,14 0,35-0,90 1,91-3,51 0,09 0,07 1 н. НСХ О, 96 0,55 0,81,ВНИИПИ Заказ 76442 филиал ППП фПатентф, г Удельное электричес.коесопротивлениепри,ЭОО С, Ом см Для синтеза указанных стеколиспользуется обычная технология производства, включающая составлениешихты, варку стекла в газовой печи в кварцевых тиглях при 1500 С,.выработку иэделий методами отливки,выдувания, вытягивания. и прессования с последующим их отжигом в электрических муфельных печах.Технология получения рельефныхпокрытий из предлагаемого стекла поситаллу СТ.для микросхем спец назначения,На подготовленную согласно требованиям ситалловую подложку методом седиментации из суснензии,содержащей тонкодисперсный порошокстекла, наносится два слоя стеклатребуемой конфигурацин толщиной10 мкм каждый. Обжиг стеклообраз, ных слоев производится в конвейерной печи при 800 фС, На стеклованную поверхность методом гидропиролиэа из хлористых солей олова и.сурьма наносится при 700 С окис.- нооловяииая пленка. Методом фото;дитографии получают резистор с определенной величиной номинала сопротивления. Вакуумным напылением сло,ев. Сг-Си-Сг с последующей фотолитографией получают коммутационные,проводники и шины, часть которых облуживается для удобства присоеди..: нения.кабеля.Серьезное значение в технологииизготовления микросхеМ имеет адгеэия стекла к станнатной пленке.Предварительная проверкакачест- ва.адгезии окиснооловяиной.пленки к стеклу проверяется методом ца рапания стальной иглой. Станнатнаяпленка с поверхности стекла-прототипа царапается легко, а с предлагаемого - ее практически отделитьневозможно. В дальнейшем качество 45адгезии стекла к станнатной .плейкеподтверждается при испытаниях впроцессе эксплуатации. УсловИЯиспытаний: образцы пленок в нагретом состоянии прижимаются к термо чувствительной бумаге, котораядвижется по резиновому валику с оп-.ределенной скоростью в течение 20 ч.На стекле-прототипе при испытанияхнаблюдаются грубые сколы станнатной 55 пленки, на предлагаемом - сколовпленки практически нет, что свидетельствует о более высокой его адгезии к станнатной пленке по сравнению с прототипом и позволяет ис" 60 пользовать его.в качестве рельефа, в паре со БпО при производстве

Смотреть

Заявка

3487860, 23.06.1982

БЕЛОРУССКИЙ ОРДЕНА ТРУДОВОГО КРАСНОГО ЗНАМЕНИ ПОЛИТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ

НЕМКОВИЧ ИРИНА КОНСТАНТИНОВНА, ШИЛЕНКО АЛЕКСЕЙ НИКОЛАЕВИЧ, НЕВАР ОЛЬГА ВАЛЕНТИНОВНА, КЛИМЕНСКАЯ ДОРА АНИСИМОВНА, ЛЕПИК ИННА ПЕТРОВНА, АДЕР АННА ИЛЬИНИЧНА

МПК / Метки

МПК: C03C 3/10

Метки: стекло

Опубликовано: 07.10.1983

Код ссылки

<a href="https://patents.su/3-1046209-steklo.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Стекло</a>

Похожие патенты