Электронная линза

ОПИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз СоветскикСоциалнстнчаскнзРеспублик рц 1001226 Ф.(61) Дополнительное к авт, свид-ву(22) Заявлено 160381 (21) 3294745/18-21 1 э 11 М. Кп.з Н 01 3 29/02 с присоединением заявки Нов(23) Приоритет -Государственный комитет СССР по дедам изобретений и открытий(54) ЭЛЕКТРОННАЯ ЛИНЗА Изобретение относится к электронной технике, в частности к конструкциям электронно-оптических систем, состоящих нз наборов диафрагмы.Известно устройство, прн сборке . которого используют центрирующие стержни, пропускаемые через отверстия диаФрагм 1 1).Однако из-за сложности центрирующих элементов и большого числа опера" ций точность собранной системы от" носительно мала.Наиболее близкой к предлагаемой по технической сущности является электронная линза, включающая. набор диафрагм, отверстия в которых вытянуты вдоль одной иэ взаимно перпендикулярных осей симметрии и взаимно перпендикулярно ориентированы для соседних диафрагм. Для обеспечения точности сборки этой линзы используют несколько стержней, параллельных электронно-оптической оси и проходящих через дополнительные соосные технологические отверстия в диафрагмах, образующих линзу 2 .Однако в этом устройстве технологические отверстия выполняют вне зоны основных рабочих отверстий, поэтому размеры последних ограничены в направлении вытянутости, в то время как с целью уменьшения аберрацийрабочие отверстия должны иметь мак сигнально возможные размеры, что особенно важно, например, для неосесимметричных линз усиления отключения,где отклоненный луч проходит на значительном удалении от оси системы 10 для обеспечения большей рабочей пло-щади экрана.Цель изобретения - увеличение ра- бочей площади экрана при сохранениигабаритов линзы.Указанная цель достигается тем,что в электронной линзе, включающейнабор диафрагм, отверстия в которыхвытянуты вдоль одной из взаимно перпендикулярных осей симметрии и вза имно перпендикулярно ориентированыдля двух соседних диафрагм, а частьдиафрагм с одинаковой ориентациейотверстий снабжена дополнительнымисоосными технологическими отверстия"ми, отверстия другой части диафрагмс противоположной ориентацией насторонах, наиболее удаленных отэлектронно-оптической оси, выполненыс выемками, проекция контура которых 30 на сос днюю диафраг"у совпдает сконтуром технологических отверстий, 10012265 10 15 20 25 30 40 45 50 55 60 На чертеже изображена электронная линза.Электронная линза состоит из набора диафрагм 1 с вытянутыми отверстиями. В каждой диафрагме по осям симметрии отверстий выполнены технологические отверстия 2 (по оси симметрии, перпендикулярной направлению вытянутости) и выемки 3 (по другой оси симметрии). При сборке линзы через технологические отверстия 2 и выемки 3 пропускают вспомогательные стержни 4. Диафрагмы снаб" жены также лапками 5, Отверстия 2 и выемки 3, которые изготавливают одновременно, имеют одинаковые контуры.Такая конструкция характерна для линз усиления отклонения.Линзу устанавливают между системами отклонения и люменисцентным экраном. Сфокусированный электронный луч отклоняется пластинами систем в:радикального и горизонтального отклонения, проходит сквозь линзу усиления отклонения и попадает на люминесцентный экран. В зависимости от поданного на диафрагмы линзы усиления отклонения потенциала угол отклонения и удаление электронного луча изменяются. Причем в плоскости отклонения, в которой выступы отверстий диафрагм отрицательны, происходит возвращение луча к оси, но с углом большим, чем угол на входе в линзу, В этой плоскости коэффициент усилейия отклонения, равный отношению положений отклоненного луча на экране при включенной и выключенной линзе усиления отклонения, имеет отрицательную величину, большую единицы по абсолютной величине.В другой плоскости угол отклонения электронного луча от оси увеличивается, коэфФициент усиления отклонения положительный и больше единицы, Величина удаления электронного луча в линзе в этой плоскости сравнима с размерами. отверстий в диафрагмах.Величина нелинейньп искажений определяется в данном случае сферической аберрацией линзы усиления отклонения, а коэффициент сферической аберрации обратно пропорционален апертуре линзы (т.е. размеру центральных отверстий в диаФрагмах).Чем больше размеры центральных отверстий в диафрагмах линзы усиления отклонения, тем меньшие нелинейные искажения она вносит и тем больший размер рабочей части экрана мож" но получить. Дополнительные боковые выемки, которые расположены на сторонах отверстий, наиболее удаленных от оси, облегчают центрирование диафрагм линзы усиления отклонения, имеющих увеличенные размеры отверстий, с остальной частью электроннооптической системы, для чего используют металлические стержни, которыевводят вдоль оси системы в дополнительные боковые выемки одних и технологические отверстия других диафрагм. Кроме того, сами выемки уменьшают влияние паразитного поля боковых сторон отверстий, наиболее удаленных от оси системы, и тем самым увеличивают квадрупольный эффект, снижая нелинейность усиления отклонения.Предлагаемая конструкция линзы в сочетании с описанным выше способом сборки обеспечивает высокую точность и упрощение изготовления, а также увеличение размеров центральных отверстий в диафрагмах при сохранении минимальных габаритных размеров всей электронно-оптической системы, что позволяет повысить качество изображения и размеры рабочего поля экрана при минимальных затратах дефицитных материалов.Величина нелинейности отклонения на поле экрана 100 120 мм при длине трубки менее 400 мм не превышает 1 Ъ. Это достигается тем, что увеличиваются точность центровки и в 1,5 раза размеры основных отверстий в диафрагмах линзы.Формула изобретенияЭлектронная линза, включающая набор диафрагм, отверстия в которых вытянуты вдоль одной из взаимно перпендикулярных осей симметрии и взаимно перпендикулярно ориентированы для двух соседних диафрагм, а частьдиафрагм с одинаковой ориентациейотверстий снабжена дополнительнымисоосными технологическими отверстиями, отличающаяся тем,что, с целью увеличения рабочей площади экрана при сохранении габаритовлинзы, отверстия другой части диафрагм с противоположной ориентацией на сторонах, наиболее удаленных отэлектронно-оптической оси, выполненыс выемками, проекция контура которыхна соседнюю диафрагму совпадает сконтуром технологических отверстий.Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1, Авторское свидетельство СССР9 332519, кл. Н 01 У 29/02, 1969.2.Патент США 9 3660707,кл.313-80,опублик. 1972 (прототип).1001226 Составитель В. ГаврюшинРедактор А. Огар Техред К.Мыцьо Корректор Ю. Макарен дписнССР ко о