Линза усиления отклонения

Соаоз Советскнк Социал нстнческнк Республик(11) 598 15 6 К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ,ОтаолнительнОе к ВВТ. свид 22) ЗВЯВлеиО 150875(21) 2165 исоедииеиием заявки,рав 01 Ю 29 5 ваударатввкнца квиктвВаввта Мквкатрав 66 СРка,двлам вааарвтваквк аткриткй.2 бб(088.8 45) Дата оатублтткоВВний ойисатаия 23,02Н. Бугера А УСИЛЕНИЯ ОТКЛОНЕНИЯ ичие аберрацинию раэрешающе 25 Изобретение относится к областиэлектровакуумного приборостроения,в частности к конструированию электроннооптических систем (ЭОСАТ элек,троннолучевых трубок, основанныхна использовании неосесимметричныхэлектронных линз,ИзВестны ЭОС, использующие неосесимметричные электронные линзы,дляусиления отклонения пучка. Так,например, квадрупольная линза, расположенная между сигнальными отклоняющими пластинами и экраном ЭЛП,позволяет в 1,5-.2 раза повысить чувствительность прибора к отклонению111 . Недостатком таких системявляется астигматичность пучка.,Наиболее близким к изобретению техническим решением является линзаусиления отклонения электронного пучка, содержащая пакет диафрагм с отверстиями сложной формы, ориентированными так, что плоскости симметрииотверстий соседних диафрагм взаимноперпендикулярны 21 . Такая линзаможет применяться, например, с дуплетом квадрупольных линз, используемыхдляпредварительной Фокусировки.Недостатками ее являются астигматичность пучка и нал й приводит к сниже й собности ЭЛТ.Целью изобретения является улучшение Фокусировки электронного пучка эа счет коррекции аберраций. Это достигается тем, что в предлагаемой линзе по обе стороны, по крайней мере, одной иэ диафрагм установлены две дополнительные диафрагмы с отверстиями той Же формы, причем угол между плоскостями симметрии отверстий дополнительных и расположенной между ними диафрагм составляет -45-+45На чертеже показана описываемая линза.Линза состоит из набора диафрагм 1-7. Плоскостисимметрии отверстий диафрагм 1, 4 и 7; " перпендикулярны к плоскости симметрии отверстий диафрагм 2 и бДополнительные диафрагмы 3 и 5 установлены по обе стороны диафрагмы 4 и имеют отверстия той же формы,. что и диафрагма 4. Угол между плоскостями симметрии отверстий дополнительных 3 и 5 и основной 4О диафрагм может составлять - 45-+45На диафрагмы 1, 4 и 7 подан потенциал 1 т , а на диафрагмы 2 и б - потвициал О, . На дополнительные диафрагмЫ598156 Составитель В., Обухов ТехредЕ.давидович Корректор С .Ямалова актор Л. Пейсоченк раж 960го комитетаизобретенийЖ, Рауша Подписн Совета Иинист открытий я набер д45 лиал Б 11 П Патент, г, Ужгород, ул. Проектная, 4 3 и 5 может быть подан потенциал 0 управляющий отклоняющей силой линзы, В частном случае эти диаФрагмы могут быть установлены под тем же потенциалом, что и диаФрагма 4. Возможно выполнение линзы с дополнительными диаФрагмами, установленными по обе стороны от нескольких основных диаФ- рагм с соответствующей ориентацией отверстий, ЮВведение дополнительных диаФрагм под тем же потенциалом, что и окруженная ими основная диаФрагма, приводит к,некоторому снижению усиления отклонения, что .частично может скомпен ,сировать подбором потенцйала ЮОднако установка дсполнительнь;х диаФрагм пс обе стороны одной из основных диаФрагм приводит к повышению разрешающей способности на 20-25; уТаким образом, изобретение позволяет уменьшить ширину линзы и повысить разрешающую способность электроннолучевой трубки, что повышает ее точность и инФормициснную способность.Формула изобретенияЛинза усиления отклонения электронного пучка, содержащая пакет диаФрагм аказ 1259/44 Т ЦИИИПИ Гссударственн по делам 113035, Иссква 0с отверстиями, размер которых вдоюжодной из двух взаимно перпендикуляр"ных осей симметрии больше, чем вдольдругой, причем отверстия ориентированы так, что йлоскости симметрииотверстий соседних диаФрагм взаимно.,перпендикулярны, о т л и ч а ю щ а яс я тем, что, с целью улучшения Фокусировки электронного пучка за счеткоррекции аберраций, по обе сторо"ны, по крайней мере, одной из диаФ"рагм установлены две дополнительныедиаФрагмы с отверстиями той же Формы,причем угол между плоскостями симметрии отверстий дополнительных и расположенной между ними диаФрагм сбс="тавляет - 4 5-+45. источники инФормацни, принятые во внимание при экспертизе.1. Шерстнев Л. Г. Электроиная оптика и электроннолучевые приборы. И., Внергия, 1971, с. 173-17 б.2. Овсянникова Л. П. и др. При мененне квадрупсльных линз для одно временной Фокусировки и отклонения луча в Озлт, Радиотехника и алектроника, 1972, т. 17, Р 5, с. 1062 10 об.