Опочная оснастка для изготовлениялитейных форм вакуумной формовкой

ОП ИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советски кСоциалистическикРеспубликпо делам изооретеиий и открытий(54) ОПОЧНАЯ ОСНАСТКА ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЛИТЕЙНЫХ ФОРМ ВАКУУМНОИ ФОРМОВКОЙ Изобретение относится к литейному производству, в частности к конструкции опочной оснастки для литейных форм, изготовленных методом вакуумной формовки.Известна конструкция опочной оснастки для изготовления литейных форм вакуумной формовкой, содержащая подопочную плиту и опоку, имеющую корпус, в котором выполнена система вентиляции формы в виде кольцевого канала по периметру опоки с вентиляционными отверстиями, перекрытыми мелкоячеистым фильтром. Принципиальным отличием вакуумных опок от традиционных является функция создания равномерного распределения вакуума в форме, которая осуществляется устройством вентиляции формы. В известных способах повышение равномерности распределения вакуума в форме достигается за счет индивидуальных средств, когда конструкция опоки и устройства вентиляции приспосабливается к конфигурации отливки. Такие опоки имеют ограниченное применение, так называемые специальные опоки. В универсальных опоках система вентиляции выполняется в боковых стенках, поэтому пристеночные и центральные объемы формы находятся в неравных условиях вакуумирования 11.Недостатком данной опочной оснасткиявляется неравномерное распределение вакуума в форме, обусловленное тем, что система вентиляции расположена на переферии (по боковой поверхности) формы. Поэтому прочность формы в нерабочей зоне больше, чем на рабочих поверхностях полости формы,Цель изобретения - повышение равномерности распределения вакуума в формото вочном материале литейной формы.Указанная цель достигается тем, что подопочная плита оборудована автономной вакуумпроводящей системой, размеры которой не выступают за габариты опоки в свету, и уплотняющим элементом. Такая систе ма может состоять из металлической сетки,наложенной на рабочую поверхность подопочной плиты или выполнена в виде вакуумпроводящего слоя из прессованной бронзы или отвержденной пористой формовочной смеси.В вакуумпроводящей системе практически (для условий вакуумной формовки) невозможно создать перепад давлений, поэ84 б 070 Формула изобретения Составитель Л. Минаев Редактор М. Погорилнк Тсхред А, Ьойкас Корректор Е. Рошко Заказ 528311 О Тираж 869 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж - 35, Раушская наб., д. 4/5 Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4тому при наложении подопочной плиты на форму возле подопочной плиты, а, следовательно, по всей площади опоки создается зона равномерного вакуума. Высота опоки в 5 - 10 раз меньше ее ширины, поэтому, при использовании известной подопочной плить 1 и универсальной (без дополнительных вакуумпроводов) опоки, условия вакуумирования в центре формы в 2,5 - 5 раз хуке, чем у ее боковых стенок. При использовании предлагаемой подопочной плиты по всей боковой поверхности литейной формы ,за исключением лада) создаются одинаковые условия вакуумирования.На чертеже показана опочная оснастка, разрез.Подопочная плита содержит рабочую поверхность 1, на которукг установлена металлическая сетка 2, загци 1 енная перфорированным листом 3. По контуру листа 3 установлены прокладки из вакуумной резины заподлицо с листом 3 и контактирующие с опокой 4. 20Опочная оснастка раоотает следующим образом.Изготовление литейггой полуформы вакуумной формовкой производят известным способом до операции герметизации поверх 25 ности набивки. Поверхность герметизируют наложением подопочной плиты и вакуумируют полуформу. В связи с тем, что при вакуумировании формы происходит некоторое (незначительное) уггло гнение формсвочного материала, подопочпая плита вдавлива- зв ется в полуформу, и тем самым обеспечивает герметизацию поверхности набивки. Г 1 оэтому по длине подопочной плиты гзакуум распространяется беспрепятственно, а, следовательно, давление в плите равно давлению у стенок опоки 4, которое равно давлению в системе вентиляции формы. От внутренней боковой поверхности опоки 4 и рабочей поверхности подопочной плиты вакуум распространяется в нормальном направлении в глубь формы с одинаковой скоростью, причем расстояние от источника вакуума до самого удаленного объема формовочного материала не превышает высоты опоки. Такое быстрое и равномерное вакуумирование делает ее нечувствительной к изменению давления в отдельных объемах, так как на эти изменения мгновенно реагирует весь вакуумированный объем формовочного материала и система вентиляции.В предлагаемом изобретении подопочная плита активно участвует в формировании технологических и рабочих свойств форм и обеспечивает большую равномерность распределения вакуума в форме. При использовании предлагаемой оснастки в два раза сокращается расход синтетической пленки, так как отпадает необходимость в герметизации поверхности набивки. Опочная оснастка для изготовления литейных форм вакуумной формовкой, содержащая опоку с двойными стенками, внутренние стенки которой перфорированы, и со средством для подсоединения к вакуумной системе, устройство для вентиляции и подопочную плиту, отличающаяся тем, что, с целью расширения технологических возможностей оснастки, устройство для вентиляции размещено на подопочной плите, выполнено в виде многослойной сетки и установленного на ней перфорированного листа с размерами опоки в свету и снабжено уплотняющим элементом. Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1. Английский патент542272,кл. В 3 6, опублик. 1979.