Планка с регулярным микрорельефом
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 679917
Авторы: Джаникашвили, Киракосян, Рыжик, Шнейдер
Текст
Союз Соввтских Социалистических Республик(23) Приоритет 5.08.79. Б кэл но делам иэооретвн и открытий(088,8) . Дата опубликования опис я 19,08.7 72) Авторы изобретения ейдер, М. В. Джаникашвили,.М. А, Рыжик и О, П. Киракос енинградский институт точной механики и оптики) Заявитель 4) ПЛАНКА С РЕГУЛЯРНЫМ МИКРОРЕЛЬЕФОМ а именно, к конструк фотоаппаратЬв, в част устройствам.Известны планки, с гообразной формы и нофотоматериала 1) .Недостатком извест тивным элементам для ности к их прижимным одержащие пластины думеханизм ее отвода от ки ных устроиств являетсяности пластин, что вызы. шероховатость поверх вает царапины на фот материале. зобретение относится к кино ототехнике Наиболее близким к изобретению по технической сущности является планка с регулярныммикрорельефом, содержащая рабочую поверхность с элементами микрорельефа 2,Однако известные устройства имеют недоста.точную надежность контакта с кинопленкой.Для повышения надежности контакта с кино.пленкой по всей рабочей поверхности в фильмовых каналах фотоаппаратов путем исключениямеханических повреждений кинопленки в предлагаемом устройстве микрорельеф рабочей поверхности выполнен выпуклым в соответствиис соотношением - - 3000 - 3500,М где В - радиус выступов;Н - . высота выступов,и числом выступов на 1 см - 750 -850:На фиг, 1 показано описываемое устройство,общий вид; на фиг, 2 - узелна фиг. 1.Регулярный микрорельеф с неровностями вы.пуклой формы, однородным по размерам, взаиморасположению и форме, определяет условияисключения дефектов на фотоматериале, снижает усилия протягивания и обеспечивает качест.венное выравнивание фотоматериала в фильмо.вом канале фотоаппарата.Оптимальный регулярный выпуклый микро.рельеф поверхности прижимной планки, обеспе.чивающий нормальное условие работы всего механизма, характеризуется следующими соотношениями: отношением величины радиуса микровыступов к их высоте - 3000.3500 и числомвыступов на 1 см - 750-850. Экспериментальные исследования работоспособности прижимных планок показали, что усилия протягигания и царалание фотопленки уменьшились за счет создания ре 1 улнрного вы.679917 Формула изобретения 1 подернут ставитель Л. Тепло Корректор С. Ше Техред З,фан Редактор С. Хей аказ 4788/4 Тираж 548 Подписное 11 НИИПИ Государственного комитета СССР ло делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж - 35, Раушская наб д, 4/Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул ектная,3пуклого микрорельефа. Улучшился также внешний вид прижимных планок,Планка с регулярным микрорельефом, содер. жащая рабочую поверхность с элементами микрорельефа, отличающаяся тем, что, с целью повышения надежности контакта с киноплен. 1 о кой по всей рабочей поверхности в фильмовыхканалах фотоаппаратов путем исключения меха.нических повреждений кинопленки, в ней мик. 4рорельеф рабочей поверхности выполнен выпук.дым в соответствии с соотношением.В. - 3000.3500,нгде й - радиус выступов;Н - высота выступов,и числом выступов на 1 см - 750 850.Источники информации, принятые во вниманиепри экспертизе1. Патент США Иф 3700318, кл. 352-225, 1972.2. Шнейдер 1 О. Г. Образование регулярныхмикрорельефов на деталях и их эксплуатационные свойства. Л., "Машиностроение", 1972, с, 66
СмотретьЗаявка
2546253, 24.11.1977
ЛЕНИНГРАДСКИЙ ИНСТИТУТ ТОЧНОЙ МЕХАНИКИ И ОПТИКИ
ШНЕЙДЕР ЮРИЙ ГДАЛЬЕВИЧ, ДЖАНИКАШВИЛИ МИХАИЛ ВАСИЛЬЕВИЧ, РЫЖИК МИХАИЛ АБРАМОВИЧ, КИРАКОСЯН ОГАНЕС ПАРЗИРОВИЧ
МПК / Метки
МПК: G03B 1/48
Метки: микрорельефом, планка, регулярным
Опубликовано: 15.08.1979
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-679917-planka-s-regulyarnym-mikrorelefom.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Планка с регулярным микрорельефом</a>
Предыдущий патент: Модулятор
Следующий патент: Устройство для отработки выдержки фотозатвора
Случайный патент: Катковая опора наклонного трубопровода