Композиция для устройства изолирующих прокладок

Номер патента: 1644998

Опубликовано: 30.04.1991

Авторы: Птушкин, Старостин

МПК: B02C 4/06

Метки: вальцовый, подачи, продукта, станок

...относится к мукомольному производству и может быть использовано в вальцовых станках,Целью изобретения является регулирование расхода продукта по длине питающего вальца и выравнивание его. гранулометрического состава,На чертеже изображена предлагаемаяустановка, общий вид,Для регулирования расхода продукта и 10выравнивания его гранулометрического состава заслонка разделена на несколько частей и,каждая связана посредством рычагов,и тяг с поворотным валом.Устройство подачи продукта в вальцовый станок содержит питающий 1 и дозирующий 2 валки, вал 3 с жестко укрепленнымина нем рычагами 4 и установленную надпитающим валком 1 заслонку 5, разделенную на несколько частей, каждая из которых 20связана с валом 3 посредством рычагов 4 итяг 6, Длина...

Номер патента: 1276622

Опубликовано: 15.12.1986

Авторы: Бабенко, Лапшина, Мордвинова

МПК: C01F 7/02

Метки: активной, алюминия, гранул, окиси, сферической

...распадаются образуя в водной среде гель, который возвращают на Формование в углеводородной жидкости с последуюшим от вселением годного продукта некондиционных гранул.П р и м е р 2. Способ ведут аналогично примеру 1.100 г некондиционных гранул актив- З 5 ной окиси .алюминия заливают гептаном так, чтобы жидкость полностью смочила гранулы. Через 1 мин гептан сливают, а к гранулам приливают ,130 мл воды. Разрушение гранул начинается сразу после добавления воды, и через 1 мин все гранулы расг.;адаются, образуя гель, который возвращают на Формование.П р и м е р 3. Способ ведут аналогично примеру 1. 100 г некондиционных гранул активной окиси алюминия заливают деканом, при этом гранулы полностью погружены в жидкость. Через 0,8 мин, после...

Номер патента: 972387

Опубликовано: 07.11.1982

Авторы: Тучков, Тютин

МПК: G01N 27/66

Метки: азота, концентрации, окиси

...схемы и необходимости в ее калибров ке в процессе измерения, Все это повышает точность измерения, делает ихнепрерывными.,Расположение источника фотонов так,что излучающая поверхность направленав сторону конденсатора Гердиена и перпендикулярна его входному сечению, т,е.параллельна образующей конденсатора,позволяет собирать все образованныеионы окиси азота в размере сечения, чтопозволяет однозначно связать измеряемый ток с концентрацией окиси азота в 7независимости от ориентации ракеты,т.е, повышает точность измерений.Применение источника иониэации интенсивностью 10 "-10 "8 фотон/с.вместе свышеперечисленными признаками позволяет проводить измерения концентрацииокиси азота, начиная с концентрации10 см в диапазоне высот 15-90 км.На...

Номер патента: 1102982

Опубликовано: 15.07.1984

Авторы: Буюкли, Милетич, Прусенков, Шевченко

МПК: E21F 5/00

Метки: камнерезных, машин, пиления, продуктов, удаления

...механизмом перемещения шибера с приводом, причемширина шибера равна половине ширинызаборного окна,Причем, механизм перемещения шибера выполнен в виде управляющегоколеса, на котором закреплены тросы,соединенные с шибером, и снабженреле времени с контактным диском,причем управляющее колесо связано сконтактным диском,На фиг. 1 показано устройство,общий вид; на фиг. 2 - схема расположения щитка при вращении цепи против часовой стрелки, поперечный разрезна фиг. 3 в . схема расположениящитка при вращении цепи по часовойстрелке, поперечный разрез, на 2982 эфиг, 4 - устройство, продольный разрез,Устройство для удаления продуктовпиления камнерезных машин состоитиз корпуса 1 с пылештыбоприемнымокном 2, отсасывающего устройства.В...

Номер патента: 1147774

Опубликовано: 30.03.1985

Авторы: Алешкин, Епифанов, Зименкова, Масляков, Стрельников, Суздаль, Цуранов

МПК: C30B 11/10, C30B 29/20

Метки: алюминия, загрузки, окиси, шихты

...последнего питателя сигнал с элемента контроля обеспечивает прекращение подачи шихты в пневмопровод, выгрузку шихты иэ питателей в кристаллизационные аппараты и подачу избытка шихты в исходную емкость, 1 ОНедостатком способа и устройства для его осуществления является его сложность из-за наличия дополнительного питателя для каждого кристаллизационного аппарата и специального механизма (например,вибратора) для равномерного заполнения стакана крис таллизационного аппарата, причем при выгрузке из питателя она попадает в кристаллизационный аппарат в уплот ненном состоянии, что затрудняет ее дальнейшую подачу на затравку кристалла, а последовательное заполнение бункеров снижает производительность труда за счет значительного увеличе...