Осветительное устройство

Номер патента: 393789

Опубликовано: 01.01.1973

Автор: Поль

МПК: H01S 3/00

Метки: генератора, квантового, луча, оптического, расходимости

...12,В случаях работы ОКГ с мощным излучением перед объективом дополнительно устазО навливают ослабляющий фильтр 1 З.393789 нальны частным значениям функции распределения интенсивности луча в соответствии с новыми положениями или размерами диафрагм.5 При градуировке оси времени индикаторав угловых единицах расходимость определяют из функции распределения энергии или интенсивности излучения, которую получают в виде огибающей серии импульсов.10 Предлагаемый способ измерения расходимости луча ОКГ позволяет создавать универ.сальную контрольную аппаратуру приборного типа по измерению расходимости луча на различных длинах волн и для различных режи мов работы с малыми затратами времени наизмерения, необходимые для улучшения качеств ОКГ, а...

Номер патента: 326677

Опубликовано: 01.01.1972

Автор: Троицкий

МПК: H01S 3/098

Метки: генератора•сесоюзная, квантового, оптического, резонатор

...улучшение монохроматичности за счет подавления колебаний нежелательных типов в резонаторе.Предложенный резонатор отличается тем, что в пучность стоячей волны рабочего типа колебаний помешают топкую поглощающую пленку, толщина которой примерно в 10 раз меньше рабочей длины волны генератора.На чертеже схематично представлен предчоженный резонатор.Резонатор, аналогичный интерферометру фабри-Перо, содержит зеркала 1, 2, между которыми размещена активная среда 3 ОКГ, и стеклянную пластинку 4, параллельную зер 2калам. На одну поверхность пластинки нанессна тонкая поглощающая пленка 5 г, на другую - просветляющее покрытие 6. Мощность потерь в пленке 5 пропорциональна квадрату 5 напряженности поля в данной точке.ОКГ генерирует ца единственном...

Номер патента: 516130

Опубликовано: 30.05.1976

Автор: Гаврилов

МПК: H01S 3/00

Метки: генератора, излучения, измеритель, квантового, оптического, пучков, расходимости

...Х,д11 Л (ЬХ - размер пятна по координате Х; д - размер пятна на входе объектива-анаморфота;- фокусное расстояние длиннофокусной положительной цилиндрической линзы; 12 - фокусное расстояние короткофокусной отрицательной линзы),Увеличение пятна по координате У позволяет выбрать из него (диафрагмы 2) полоску 1, такую, что интенсивность излучения 1 в ней в направлении У не меняется или меняется незначительно и зависит только от Х, а распределение 1(Х) подобно диаграмме направленности в этом сечении, Линии равной интенсивности в пятнеполученном таким образом, параллельны оси У.Фильтр 3, плотность которого Х)(У) изменяется по координате У и не меняется по Х модулирует излучение следующим образом. Интенсивность света, прошедшего через...

Номер патента: 200530

Опубликовано: 01.01.1967

Автор: Баранов

МПК: F21V 13/02

Метки: источника, лучей, ограничения, одной, плоскости, пучка, раствора, света, углового

...причинам.Отражательная поверхность каждого элемента образована поступательным перемещением участка параболы и его зеркальным отражсццсм. Фокус параболы совмещен с началом учасп ка зсркальцого отражения, а угол между плоскостью симметрии и осями параболы и зсральцого отражения равен заданному предельному углу входа лучей в большую щель онцецтратора. сечение парного параболоцилиндрическогэлемента. Предмет изобретения5 Устройство для ограничения в одной плоскости углового раствора пучка лучей от источника света, содержащее концентратор светового потока с параболоцилицдрическими элементами с отражательной поверхностью, 10 образованной поступательным перемещениемучастка параболы ц его зеркальным отражением, фокус которой совмещен с...

Номер патента: 273023

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Камач, Козловский, Овчинников, Соломатникова

МПК: H01S 3/115

Метки: генератора, добротиости, затвор, излучением, квантового, модуляции, оптического, отражатель, поляризованным, резонатора, электрооптический

...отражения в ней. Кристаллографическая ось Х параллельна входной грани и плоскости скоса. Зеркальное покрытие 3 нанесено на боковую грань, прилегающую к плоскости скоса, составляющую с ней угол полного внутреннего отражения. Вместо зеркального покрытия можно использовать прямоугольную призму-крышу с ребром, перпендикулярным или параллельным оптической оси 2, выполненную как единое целое с кристаллическим моноблоком. Для устранения потерь иа френелевское отражение от входной грани она может быть срезана под углом Брюстера к падающему на нее излучению. В качестве материала для моноблочного затвора-отражателя может быть использован любой оптически одноосный монокристалл, обладающий электрооптическим эффектом.Описываемое устройство...