Устройство для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
ОПИСАНИЕИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз СоветскикСоциалистически кРеспублик нщ 55 ОО 81,Н 05 осударственный комитет СССР но делам изобретений и открытийДата опубликования описания 07. 10. 81) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ НИЗКОТЕМПЕРАТУРН ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ оженныхазрядстоянияубки по 5 си. вид речн й 10 лаз- иалья - получциальнойтройствоы и катод Изобретение относится к газоразрядным устройствам с холодным катодом, может быть использовано для искусственного освещения, катодного распыления, генерации лазерного излучения и спектроскопических исследований.Известны устройства для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы, содержащие обычно два плоскопараллельных дисковых электрода ),1 . В таких устройствах плазма создается газовым разрядом в.области положительного столба и отрицательного тлеющего свечения.Известны также устройства для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы, содержащие установлен ные внутри цилиндрической газоразряд ной трубки аноды и катоды 1,2.Недостатком известного устройства является неэквипотенциальность п мы как в продольном, так и в рад ном направлении, а также неоднородность ее в пространстве газоразрядной трубки,Цель изобретени ение однородной эквипотен плазмы.Предлагаемое ус отличается тем, что анод ы выполиены в виде стержней, распо параллельно образующей газо ной трубки на одинаковых рас друг от друга и от стенок тр окружности с центром на ее оНа фиг. 1 изображен общий устройства на фиг. 2 - попеУразрез. В одном из торцов газоразрядной трубки 1 смонтированы стержневые аноды 2 и катоды 3, чередующиесямежду собой и расположенные по окружности с центром на оси трубки,Вся система электродов образует разрядный промежуток в форме цилиндра,расположенного соосно с разряднойтрубкой. После тщательной вакуумной обработки устройство заполняютодним из инертных газов,При подаче напряжения на устройство между каждой парой параллельныхэлектродов (анодом 2 и катодом 3)устанавливается короткий тлеющий разряд, состоящий из круксового и фарадеева темных пространств и отрицательного тлеющего свечения 4 (фиг.2).данное свечение является единственной светящейся областью и направлено по радиусу к продольной оси разрядного промежутка вследствие затруд550081 Формула изобретения Редактор Е. Месропова Техред Т,Маточка Корректор С. шекмар Тираж 89 ВНИИПИ Государст по делам изобр 3035, Москва, ЖПодпи енного комитета С тений и открытий Раушская наб., каз 8648/5 оеР Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная,ненности разряда между электродами и ограничивающей поверхностью. Так как отрицательное свечение каждого разряда идентично с другими и каждый из них, соприкасаясь, находится между подобными свечениями, они сливаются в одно общее отрицательное тлею.щее свечение. Плазма этого свечения хорошо просматривается через боковую и торцовую поверхности разрядного устройства в виде яркосве, тящегося столба с четкими границами. Устройство для получения низкотемпературной газоразрядной плаз мы, содержащее установленные внутрицилиндрической газоразрядной трубкианоды и катоды, о т л и ч а ю щ ее с я тем, что, с целью полученияоднородной эквипотенциальной плазмы,аноды и катоды выполнены в видестержней, расположенных параллельнообразующей трубки на одинаковых рас- .стояниях друг от друга и от стеноктрубки по окружности с центром наее оси.Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1. Браун С. Электронные процессыв плазме газового разряда. М., Госатомиздат, 1961, с. 285.15 2. Москалев В.М. Разряд с полымкатодом М., "Энергия", 1969,с. 31-40.
СмотретьЗаявка
2084973, 16.12.1974
КУЙБЫШЕВСКИЙ ИНЖЕНЕРНО-СТРОИТЕЛЬНЫЙ ИНСТИТУТ ИМ. А. И. МИКОЯНА
ВОЛКОВ Н. В, ОСИПОВ В. Н, ПЛОТНИКОВ С. М
МПК / Метки
МПК: H05H 1/02
Метки: газоразрядной, низкотемпературной, плазмы
Опубликовано: 07.10.1981
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-550081-ustrojjstvo-dlya-polucheniya-nizkotemperaturnojj-gazorazryadnojj-plazmy.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для получения низкотемпературной газоразрядной плазмы</a>
Предыдущий патент: Способ обращения волнового фронта деполяризованного лазерного пучка и устройство для его осуществления
Следующий патент: Чугун
Случайный патент: Тепломассообменное устройство