Композиция для получения фотополимерных печатных форм

Номер патента: 1772779

Опубликовано: 30.10.1992

Авторы: Полищук, Рубан, Руднева, Чуднова

МПК: G03F 7/42

Метки: печатных, покрытия, раствор, сеток, трафаретных, удаления, форм, фотополимерного

...характеризуют отношением количества ячеек, иэ которых покрытие удалено полностью, к общему количеству ячеек на единице площади сетки, Величину выражают в процентах,Механическую прочность сеток определяют путем испытания образцов сеток наразрыв по ГОСТ 3813-72.Кратность использования трафаретныхсеток характеризуют по показателям чистоты ячеек и прочности на разрыв ситовыхтканей после каждого снятия фотополимерного покрытия предлагаемым раствором.За показатель кратности принимают количество снятий фотополимерного покрытия с ситовой ткани, которое не вызываетснижения прочности ткани более, чем в двараза от первоначальной прочности, приобеспечении чистоты ячеек не менее 99,П р и м е р 4. Трафаретную печатнуюформу изготавливают, как в...

Номер патента: 1708643

Опубликовано: 30.01.1992

Автор: Керенцев

МПК: B41C 1/14

Метки: печатной, печатных, платах, прокладок, трафаретной, фольговой, формирования, формы, электроизоляционных

...экспонируют и проявляют,(позитив рисунка фольгового трафарета - негатив рисунка платы). Полученный пакет: фольговый трафарет - комбинированный фотооригинал экспонируют и после проявления получают готовую трафаретную металлическую форму с окнами для прохождения пасты и выступами (негатив епй ное изображение рисунка схемы), которые 4 заполняют промежутки между проводника- СР ми на печатной плате и не позволяют эапе чатываемому материалу растекаться, 0 сП р и м е р 2, Возможен другой вариант. ф На фольговый трафарет наносят пленочный) фоторезист СПФи пробивают базовые отверстия. Печатная плата по базовым отверстиям устанавливается на штифты гладкойа плиты, На плату накладывают фольговый трафарет фоторезистом к плате, накрывают второй...

Номер патента: 452799

Опубликовано: 05.12.1974

Авторы: Бабич, Бернацек, Дудяк, Карликов, Коваленко, Лазаренко, Мервинский, Семанов, Сумин

МПК: G03F 7/10

Метки: жидкая, композиция, фоточувствительная

...люминесцентными лампами с ультрафиолетовым излучением типа ЛУФна расстоянии 10-12 см в течение 5-10 мин,для формирования основы и в течение 10-15 мин для образования печатающих элементов. После экспонирования незаполимеризовавшуюся жидкую часть композиции сливают, раму демонтируют и полимерную печатную форму очищают этиловым спиртом, Получают полимерную печатную форму, имеюшую четкие грани печата-, ющих элементов, высокую разрешающуюспособность (более 150 лин/см), высокую выделяющую способность (менее 50 мкм), ,трапециевидныйпрофиль пе 4 атаюших элементов и высокую эластичность.452798 Составитель 1, Абраменко Редактор11 а амона Гехред КорректорЛ.Казачкова Н.Враллина Изд. И /ОЬ ) краж 306 Подписное ЛакаяЯ,5 7" 111осударствениого комика...

Номер патента: 535543

Опубликовано: 15.11.1976

Авторы: Маслюк, Руднева, Сопина, Триндяк, Шепельская, Шкуренко

МПК: G03C 1/68

Метки: печатных, форм, фотополимерных

...печатной формы проводят в сушильном шкафу при 1005 С в течение 20 мин.П р и и е р 2. В трехгорлую колбу с мешалкой и обратным холодильником загружают, вес. ч.: мономер (метакриловая кислота) 5,0; инициатор фотопол имер изации (метиловый эфир бензоина) 0,6; инициатор термополимеризации (динитрил азо-бис-изомасляной кислоты) 0,5, и тщательно перемешивают,После полного растворения инициаторов в эту массу при перемешивании прибавляют 100 вес. ч. олигоуретанакрилата (ОУА= =2000 т) и 30 вес. ч, полиэфиракрилата (ТГМ=З). Полученную светочувствительную композицию растворяют 10 вес. ч. разбавитсля (спирт:ацетон=1:1) и поливом в центрифуге наносят на основу. После испарения растворителей пластину экспонируют через фотошаблон в...

Номер патента: 644637

Опубликовано: 30.01.1979

Авторы: Бродский, Славинская, Шур

МПК: B41C 1/06

Метки: печатных, приправочным, рельефом, форм, фотополимерным, фотополимерных

...института киноинженеров из характеристической кривой: э ВтсНпор.в = 190мй Д 1 ЛР п (2)П 1где Б Ов дв - соответственно средниеоптические плотности слоев А, Б, В в актиничномдиапазоне излучения;Нр.в - критическая экспозиция,эпри которой начинаетсяпроцесс фотоструктурирования (трехмернойсшивки) в приправочномслое В; определяется изхарактеристической кривой фотополимеризующегося материала.П р и м е р. А. Получают фотополимеризующуюся пленку толщиной 0,5 мм путемотлива из раствора следующего состава, г:Ацетосукцинат целлюлозы 193,0Полиэфир ТГМ38,6Глицидилметакрилат 19,3Оксиэтилированный гептиловый спирт 38,6а-хлор антр ахинон 0,029Триэтиламин в ацетоне 6,0Смесь ацетона и спирта(85: 15) 1200 (мл)Средняя оптическая плотность...