403479

Номер патента: 1430236

Опубликовано: 15.10.1988

Авторы: Абрамов, Андрианов, Баринов, Орлов, Панфилов

МПК: B24B 7/17

Метки: двухстороннего, некруглых, опорных, пластин, поверхностей, твердосплавных, шлифования

...в пределах, указанных выше, их скоростей вращения, некруглые пластины 1, установленные в цилиндрических гнездах 2 сепараторов 3, совершают наряду с возвратно-поступательным движением совместно с сепараторами 3 и вращательное движение относительно осей гнезд 2 сепараторов 3 по стрелке Б, обусловленное разными значениями линейных скоростей по радиусу круга, пропорциональных окружным, усилиям на одной стороне пластины 1 по сравнению с другой. Эпюра скоростей, приведенная на фиг. 5, объясняет условие возникновения под действием неуравновешенных окружных усилий вращательного движения пластин 1 (Чн и Че - скорости вращения нижнего и верхнего шпинделей соответственно) . Кинематика движения пластин 1 в сепараторах 3 имеет вид орбитального...

Номер патента: 1162586

Опубликовано: 23.06.1985

Автор: Зюзьгин

МПК: B25C 1/00

Метки: забивки, крепежных, поверхность, элементов

...на фиг. 2 - разрез А - А на фиг, 1; на фиг. 3 - разрез Б - Б на фиг. 1; на фиг. 4 - разрез В - В на фиг. 1; на фиг. 5 - устройство, общий вид.Устройство для забивки крепежных элементов в поверхность содержит корпус 1 и размещенный в нем магазин-накопитель, который содержит бесконечную ленту 2, выполненную из эластичного материала, установленную с натягом на шкивах 3 и 4 и не- сущую на себе захватные элементы в виде штырей 5, размещенных в центре ленты 2. На штыри 5 одевают крепежные элементы б. С внешней стороны ленты 2 к стенкам кор пуса 1 прикреплены направляющие 7. Шкивы 3 и 4 выполнены разного диаметра, причем шкив 4 меньшего диаметра взаимодействует при работе устройства с поверхностью. Для организации поштучной выдачи крепежного...

Номер патента: 1301473

Опубликовано: 07.04.1987

Авторы: Агафонов, Дашко, Задорский, Каштанова, Русалин

МПК: B01D 53/20

Метки: аппаратов, насадка, тепломассообменных

...образуют систему арок, вложенных друг в друга, состоящих из перпендикулярных один другому арочных элементов, причем элементы, расположенные взаимно перпендикулярно, выполняются разновысокими, Из смежных элементов сформирована розетка и на другой стороне пластины. Пластина должна бытьперфорирована по центру.Насадка работает следующим образом,5 В аппарат для обработки газа ижидкости засыпается или укладываетсянасадка до заполнения необходимогомассообменного объема. Потоки газаи жидкости пересекают при своем движении насадку,. омывают ее, диспергируются,турбулизируются и осуществляется взаимодействие газа и жидкости.Большая рабочая поверхность насадкиобеспечивает массообмен между газом15и жидкостью как на поверхности насадки, так и в...

Номер патента: 987462

Опубликовано: 07.01.1983

Авторы: Дарбадаев, Кормушин

МПК: G01N 7/00

Метки: кювета, поглотительная

...цель достигается тем,что в кювете, содержащей горизонтальный прямоугольный корпус с оптически прозрачными стенками, в которомвыполнена рабочая камера, и приспособ-. ления для ввода и вывода исследуемого раствора, она снабжена планкой, а в корпусе выполнены резервная камера, отделенная от рабочей планкой, и газоотводящие каналы, соединенныес верхними частями камер и располо. женные по периферии корпуса.На фиг. 1 изображена кювета, вид сверху; на фиг, 2 - то же, вид сбоку, на фиг. 3 - сечение А-А на фиг. 1.Поглотительная кювета состоит из. горизонтального прямоугольного корпу-; . са 1 с оптически прозрачными стенками, в которой выполнена рабочая каме"ра 2, и планки 3. В корпусе 1 выполнена резервная камера 4, отделеннаяот рабочей...

Номер патента: 1563485

Опубликовано: 15.06.1992

Авторы: Александров, Денисов, Лещиков, Смирнов

МПК: H01J 9/12

Метки: барьерной, закрепления, микроканальной, пластины, пленки, поверхности

...до полного совмещееЕя поверхностей ИКП 6 и слоя 7 исходного материала двухслойной пленки,1 еобходимость вертикального перемеще" опя столика 5 вызвана возможным появлением морщин на двухслойной пленке при ее неточном опускащ 1 и на поверхность МКП 6. Исходное расстояние межДу столиком 5 и Двухслойной плеякой может быть любьпч. Например, при рас"стоянии 20-30 мкм можно в случаенеобходимости производить ионную чистку в разряде соприкасающихся поверхностей исходного материала и поверхности МКП 6.После совмещения поверхностей МКП6 и слоя исходного материала двух-.слойной пленки в зазоре между держа"телем 4 и катодом 3 зажигают нормаль-ный тлею 5 ций разряд с плотностью тока0,5-2,0 мЛ/см и областью отрицательного тлеющего свечения в...