Устройство для плавления битума

Номер патента: 1122766

Опубликовано: 07.11.1984

Авторы: Молчин, Фролов, Холопик

МПК: E01C 19/08

Метки: битума, непрерывного, обезвоживания, плавления, разогрева

...и надежности работы устройства,Поставленная цель достигается тем,что устройство для непрерывного плавления, обезвоживания, разогрева и очистки битума, включающее тепло- изолированный корпус с перекрытым крышкой люком, образующие загрузочную платформу электронагреватели, съемный сетчатый поддон, открытую емкость с нагревателями и накопитель битума, снабжено установленными между загрузочной платформой и открытой емкостью размещенными одна над другой обогреваемыми полками с бортами по контуру, каждая с прикрепленными снизу наклонными пластинами, имеющими плавное соединение с бортами, а сетчатый поддон расположен над горизонтальными нагревателями, выполнен секционным с силовыми элементами, перекрывающими соответствующие...

Номер патента: 355612

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Гриненко, Напрасников, Харченко, Ходаков

МПК: H03K 19/00

Метки: счета, троичного, элемент

...подключены трп диода 1, 2, 8.Анод диода 2 через резистор 4 подключен 5 к коллектору транзистора соседнего слева(младшего) разряда и через разделительный конденсатор 5 подключен к шине прямого счета б.Анод диода 3 через резистор 7 подключен к 10 коллектору транзистора соседнего справа(старшего) разряда и через разделительный конденсатор 8 к шине обратного счета 9.Анод диода 1 подключен к шине нулевого потенциала О.15 Коллекторы каждого транзистора через токоограничивающие резисторы 10 подключень к источнику питания и через резисторы обратной связи 11 к базам остальных транзисторов.На базы каждого транзистора через резисто ры 12 подается напряжение смещения.Устройство работает следующим образом.В исходном состоянии при подаче напряжения...

Номер патента: 1650266

Опубликовано: 23.05.1991

Авторы: Дудник, Мясников, Пушкарь, Тютенко

МПК: B05B 3/02, B05B 3/12

Метки: диск, распыливающий, сопловой, центробежный

...ивй кольцевой слой 15 толЩимой Ь.Толщина слоя при заданном расходеобрабатываемого продукта 14 является ввличиной постоянной, зависит от кинематичвской вязкости обрабатываемого продукта14. авроховатости внутренних повврхностай Нижнего замюетного элемента и цилиндрической поверхности 13 диска, фтмосмтвяьной скорости Ч. Отстэвэюе слоя ащрвсти вт окружной скорости Ч врввфвмиявмутрвммвй поверхности 13 Юкка, гидрэвееюескоге сопротивления аейэ Обрабатываемого продукта 14 в кэмаяы 6 сопел 7 иОпрвдвевт ввлееееу ввртмкэямюй скорости Чг,Налючие двух скщюстай Ч 1 и ЧЗ аюжения обрабетыаэвмогф продукта 14 пв внут ремней цилимщечвской повврхмОсти 13 диска создает еигмвяьное даижвммв чэстпцы Г с суммарной скоростью Ч и углом а 3 мщьвмэ сифели.Наличие...

Номер патента: 1689701

Опубликовано: 07.11.1991

Авторы: Белоусов, Бурда, Василенко, Кривонос, Филипенко, Юсыпив

МПК: F16J 15/34

Метки: гидрогазодинамической, пары, поверхности, рабочей, торцовой, трения, формирования, элемента

...поверхности удаляют слой металла, глубина которого может быть задана.В процессе эксплуатации происходит износ поверхности Б,в результате чего глубина канавки уменьшается. При достижении ею критической глубины (меньше 3 мкм) элемент пары трения восстанавливают,Осуществляют это следующим образом.С помощью механической обработки с кольца снимают слой материала на глубину йд (фиг.5). Глубину Ьд выбирают такой, чтобы в результате механической обработки с поверхности В полностью удалить дефектный слой, возникающий в результате трибовзаимодействий.После механической обработки окончательное формирование рабочей поверхности - обьем металла канавок на глубину и - осуществляют химическим (электрохимическим) фрезерованием.Число повторных...

Номер патента: 574310

Опубликовано: 30.09.1977

Авторы: Кушик, Масюк, Мигунов

МПК: B24B 21/16

Метки: контактный, ленточношлифовального, станка, элемент

...гибкая нить 2.Вдоль оснований 1 в плоскости, перпендикулярной к плоскости вращения абразивной10 ленты, со стороны, противоположной рабочейчасти копира, выполнен паз (зев) а, причемнавивка износостойкой нити 2 на основаниепроизводится в плоскости вращения лентыпри сжатом в направлении ширины зева со 15 стоянии его. Это сжатие зева основания (копира) перед навпвкой нити осуществляетсядвумя винтами 3, которые после намотки нити выворачиваются пз основания контактногоэлемента. Отверстия под этп винты располо 2 о жены на нерабочих частях контактного элемента по обе стороны от границы намотки нити (как показано на чертеже),Обработка прикомлевого участка лопатки 4производится с помощью предлагаемого проБ фильного контактного элемента,...