Способ локальной компенсации

Ссав Советских Социалистических РеспуоликЗависимое от авт, свидетельства- Заявлено 03.Х 11.1965 ( 1041814/26-10) Кл, 42 п, 23 исоединением заявки МПК О 031 т ПриоритетОпубликовано 15,711.1967. БюллетеньДата опубликования описания 2.Х.1967 комитет ло делам мзосретений и открытий при Совете Министров СССРУДК 535 885(088 8) Авторизобрете Н, ула оенная краснознаменная академ аявитель СПОСОБ ЛОКАЛЬНОЙ КОМПЕНСАЦИИ НЕРАВНОМЕРНОСТИ СВЕТОВЫХ ПОТОКОВ КОЛЛИМАТОРНОЙ СИСТЕМЪного покрыЕсли иссвета кинотражающей источником Известны способы локальной компенсации неравномерности световых потоков коллиматорной системы, основанные на использовании неравномерности обратного знака.Особенностью предложенного способа ло кальной компенсации является то, что неравномерности обратного знака получают поворотом пластинки с диффузно-отражающей поверхностью вокруг оси, лежащей в плоскости пластинки и проходящей через точку пересе чения оптических осей фокусирующей и коллиматорной систем, перпендикулярно этим оптическим осям. Зто позволяет упростить конструкцию коллиматорных систем.На чертеже представлена оптическая схема 15 устройства для осуществления предложенного способа.Устройство содержит осветитель 7, фокусирующую систему 2, 3 и 4, непрозрачную пластинку 5 с диффузно-отражающим слоем и 20 коллиматорную систему (линзу) б.Предложенный способ локальной компенсации неравномерности световых потоков коллиматорной системы осуществляется при помощи образования вторичного источника света 2 на белой диффузно-отражающей поверхности пластины, создания коллиматорной системы со вторичным точечным источником света и компенсации на локальных участках неравномерности светового потока коллиматорной си стемы со вторичным источником света неравномерностью световых потоков диффузно-отражающей поверхности путем подбора оптимального угла наклона диффузно-отражающей поверхности к оптической оси коллиматорной системыПри образовании вторичного источника света нить накала точечной лампочки осветителя 1 проецируют при помощи фокусирующей системы 2, 3, 4 на поверхность диффузноотражающей пластинки 5.Жесткую непрозрачную пластинку 5 укрепляют на оси О, проходящей через точку пересечения оптических осей фокусирующей системы 2, 3, 4 и коллиматорной системы б, перпендикулярно этим оптическим осям. Наружную поверхность центральной части пластинки 5 равномерно покрывают тонким белым диффузно-отражающим слоем, например, серно- кислого бария ВаЯО путем прессования или окисью магния распылением окиси в процессе горения магниевой пластинки.Коэффициент отражения бариетия Р = 0,96, магниевого р = 0,93пользовать в качестве источникалампу 30 в, 400 вт, диаметр оплощадки, служащей вторичнымсвета, может составить 6 - 7 д л,При образовании коллиматорной системы, использующей вторичный источник света, приЗаказ 307/7 Тираж 535 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Центр, пр. Серова, д, 4 ипография, пр. Сапунова меняют линзу с фокусным расстоянием, в 20 - 30 раз большим поперечных размеров оптического изображения нити накала лампы осветителя 1 на диффузно-отражающей пластинке 5. Поскольку неравномерность светового потока в такой коллиматорной системе определяется не только законом распределения светового потока в обычной коллиматорной системе, но и неравномерностью светового потока, отраженного от диффузно-рассеивающей поверхности, световой поток в коллиматорной системе перераспределяется путем изменения угла поророта пластинки 5 относительно оси О.Частичная компенсация неравномерности светового потока коллиматорной системы в отдельных локальных участках светового поля достигается подбором оптимального угла наклона диффузно-отражающей поверхности, служащей вторичным источником света, к оптической оси коллиматорной системы, при котором характеры изменения световых потоков коллиматорной системы и диффузно-отражающей поверхности взаимно обратны. Например, уменьшение светового потока коллиматорной системы компенсируется увеличением свето вого потока диффузно-отражающей поверхности, что обеспечивает наименьшую неравномерность светового поля коллиматорной системы на заданном локальном участке поля. Предмет изобретенияСпособ локальной компенсации неравномерности световых потоков коллиматорной системы, основанный на использовании неравномерности обратного знака, отличающийся 15 тем, что, с целью упрощения конструкции коллиматорных систем, неравномерности обратного знака получают путем поворота пластинки с диффузно-отражающей поверхностью вокруг оси, лежащей в плоскости пластинки 20 и проходящей через точку пересечения оптических осей фокусирующей и коллиматорной систем, перпендикулярно последним.