190211

1902 И ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз Советских Социалистических Республик.ЧГ 1 К 6 Прпо тет Комитет па аеламобретений и открытий ЛК 771,531:778..Х 1.1966. Бюллетснь Ло ковано чри Совете Министров СССР,1 ат апи Лв ворыпзобретспп;ский, Е. Г. Акоев В. Хорошун тепьский институт т химической физи, Н, Л. Пущинае полиграфичес ой ки АН СССРЗаявители Украинский промышл СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ фОТОПОЛ ИМЕРИЗУЮЩИХС КОМПОЗИЦИЙпримере 1,230 г сопоСпособ изготовления фотополимеризующихся композиций, растворимых в водных щелочах и состоящих из смеси полимера, полученного сополимеризацией мономеров, содержащих и не содержащих кислотные группы, например сополимера метакриловой кислоты и метилметакрилата, полимеризационно-способного олнгомера, например полиэфира МГФ-- ди мета крил атди (триэтиленгликоль)фталата, и инициатора фотополимеризации, например метплового эфира бензоина, известен. При нанесении толстого слоя этих композиции па металлическую подложку,экспонировании в УФ-свете и вымывании незаполимеризовавшихся участков слоя раствором бикарбоната натрия получают рельефные изображения, с высокой точностью воспроизводящие огигипал, механически прочные, но хрупкие.С целью придания гибкости фотополимерным слоям, предлагается в соста композиций, полимеризующихся под действием света, вводить сополимер метакриловой или акриловой кислоты с бутилакрилатом, алкилметакрилатом алкилакрилатом, содержащими в алкильпом радикале С; - СзФотополимерные рельефы изображения, изготовленные из этих композиций, сохраняют положительные качества подобных изображений из известных композиций и в то же время обладают достаточной гибкостью. Образец такого фотополимерного слоя не разрушается и не трескается при изгибании вдоль поверхности с кривизной радиуса 75 млю.Предлагаемые полимеризующиеся композиции могут быть использованы для изготовления печатных форм н схем, элементов пнеьмопики, радиоэлектроники и других рельефных изображений.П р и м е р 1. Получение сополимера метакриловой кислоты п бутилакрилата.86 г метакриловой кислоты, 142 г оутилакрилата и 1,15 г перекиси бензоила растворяют в 300 лтл этанола и полпмеризуют прп нагревании с обратным холодильником на кипящей водяной бане и механическом перемешивапии, Когда реакция сополимеризацпп закончится, реакционной смеси дают остыть н разбавляют ее 100 льт ацетона. Количсство метакриловой кислоты, вводимой в сополпмеризацию с указанным количеством бутплакрплата, можно увеличить до 130 - 175 г. Кроме того, ее можно заменить аркиловой кислотой, а вместо бутилакрилата использовать алкплметакрилаты илп алкплакрилаты из смеси спиртов С.- - Сз.Пример 2. Приготовление раствора фот ополимеризующейся компознции.К полученному, как описано враствору сополнмера дооавляют190211 Составитель Э, Рамзова Техред Т. П, Курилко Корректор Е. Ф. Полионова 1 едактор Л, Л. Ильина Заказ 4 99/17 Тираж 535 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам ивоорегепий и открытий при Совеге Министров СГГРМосква, Центр, пр. Серова, д, 4 Типографии, пр. Сапунова, 2 лпмера, полученного сополимеризацией 155 г метакриловой кислоты с 200 г метилметакрилата, в виде 30 - 45%-ного спирто-ацетонового раствора, 115 в 2 г полимеризационно-способного олигомера, например эфира ТГМ- 5 диметакрилаттриэтиленгликоль, полиэфира МГФ- диметакрилатди (триэтиленгликоль)- фталат или полиэфира МДФ- диметакрнлатди (диэтиленгликоль) фталат, и 0,6 - 10 г инициатора фотополимеризации, например ме тилового эфира бензоина, и тщательно перемешивают.Раствор содержит смесь сополимера метакриловой или акриловой кислоты с бутилакрилатом или алкилметакрилатами (акрила тами) С; - Св и сополимера метакриловой кислоты с метилметакрилатом в соотношении 1: 1. Указанные сополимеры можно вводить в состав фотополимернзующейся композиции и в других соотношениях, например 2: 3, 1: 2 2 О ит. д.П р и м е р 3, Изготовление рельефных изображений.Приготовленный по примеру 2 раствор фотополимеризуюгцейся композиции наносят на 25 подложку и после испарения растворителей, получают на ней фотополимеризующийся слой, толщина которого определяется концентрацией раствора фотополимеризующейся компознцнп н ее количеством. Пластину экспонируют в вакуумной копировальпои раме через негатив ртутно-кварцевой лампой пли другим источником УФ-лучей в течение 10 - 20 мин, Зкспонировапную пластину обрабатывают 2 - 3 й-ныхг раствором бикарбоната натрия или соды до полного растворения в широких пробелах незаполимеризовавшегося на неосвегцепных участках слоя, промывают водой и сушат.Изготовленное таким способом фотополимерное рельефное изображение хорошо воспроизводит оригинал, обладает высокой механической прочностью и достаточной гиб. костью. Предмет нзобрете пи яСпособ изготовления фотополимеризуюшнхся композиций па основе сополимера метакрнловой кислоты и метилметакрилата, полимеризационно-способного олигомера и инициатора фотополимеризацни, отличающийся тем, что, с целью получения композиций, придаюгцих гибкость фотополимерным слоям, в состав композиций вводят сополимер метакриловой нли акриловой кислоты и бутилакрилата, алкнлметакрилата или алкилакрилата, содержащих в алкильпом радикале 5 - 8 атомов углерода,