Станок для лазерной обработки
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРЕСПУБЛИК 6/1 В 2 НОЕ ПАТЕНТНОЕССР ГОСУДАРСТВ ВЕДОМСТВО ГОСПАТЕНТ РЕ СВИДЕТЕЛ АВТОР У оборудование для ла ность изобретения: стадеталей лучом лазера столе размещен полый расположены магнит и пособление. Магнит мое виде электромагнита, пособление может быть кционным с перекладиии, 2 з.п. ф-ль 1, 2 ил.) Использование рной резки, Сущ нок для обработки содержит стол. На корпус. В корпусе установочное прис жет быть выполнен Установочное прис выполнено многосе нами в каждой секц ПИСАНИЕ И(54) СТАНОК ДЛЯ ЛАЗЕРНОЙ ОБРАБОТ Изобретение относится к оборудованию для лазерной резки,Целью изобретения является повышение производительности путем сокращения времени на вспомогательные операции.На фиг. 1 изображен общий вид станка .с частичным разрезом; на фиг. 2 - сечение А-А на фиг. 1,Станок для обработки деталей лучом лазера содержит стол 1, лазер 2, На столе 1 размещается корпус 3, внутри которого установлен магнит 4, который может быть выполнен, например, в виде электромагнита. Также в корпусе 3 размещено установочное приспособление 5, изготовленное из неме-. таллического материала, например аллюминия, для обрабатываемой заготовки б. Причем в зависимости от габаритов заготовки 6 в установочном приспособлении 5 могут быть расположены, например, установочные пальцы 7 или сделаны кольцевые проточки либо установочное приспособление 5 может быть выполнено Ы, 1798091 А 1 многосекционным с перекладинами 8 в каждой секции,Станок для обработки деталей лучом лазера работает следующим образом.Перед началом обработки заготовка 6 устанавливается на корпусе 3 в установленном в нем установочном приспособлении 5. ъ Посредством магнитного поля магнита 4 заготовка 6 прижимается к корпусу 3 и установочному приспособлению 5. Во время обработки заготовки 6 лучом лазера 2 обрезки и шлам, выдуваемый потоком защитного газа, притягиваются ко дну установочного приспособления 5 магнитным полем мэгни- ф та 4. При окончании обработки установочное приспособление 5 вынимается из корпуса 3 и очищается от обрезков и шлама. При больших габаритах заготовки б, чтобы . избежать прогиба, под действием собственного веса и магнитного поля в установочном приспособлении 5 размещают установочные пальцы 7. Для удобства обслуживания станка установочное приспособление 5 мо1798091 формула изобретения Составитель С,МельниковТехред М.Моргентал Коррект едак к З.аказ 738 ВНИИПИ Госуд Тираж Подписноетвенного комитета по изобретениям и открытия113035, Москва, Ж, Раушская наб 415 ГКНТ СССР водственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул,Гагарина, 10 жет быть выполнено многосекционным с перекладийами 8 в каждой секции. 1. Станок для лазерной обработки, со. держащий лазер, стол и расположенное на нем установочное приспособление для об. рабатываемой заготовки, о т л и ч а ю щ и йс я тем, что, с целью повышения производительности путем сокращения времени на вспомогательные операции, на столе установлен палый коопчс, внутри которого расположен магнит, а установочное приспособление выполнено из немагнитного материала и размещено в этом корпусе.2. Станок по и. 1, о т л и ч а ю щ и й с я 5 тем, что, с целью автоматизации, фиксациизаготовки, магнит выполнен в виде электромагнита. 3, Станок по и. 1, о т л и ч а ю щ и й с я 10 тем, что, с целью обеспечения обработкикрупногабаритных заготовок, установочное приспособление выполнено многосекционным с перекладинами в каждой секции,
СмотретьЗаявка
4874983, 16.10.1990
НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ И ПРОЕКТНО-ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ "МИКРОН"
ХУДЯКОВ ОЛЕГ ФЕДОРОВИЧ, ТИХОНОВ АЛЕКСАНДР НИКОЛАЕВИЧ, МЕЛЬНИКОВ СЕРГЕЙ БОРИСОВИЧ
МПК / Метки
МПК: B23K 26/10
Опубликовано: 28.02.1993
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1798091-stanok-dlya-lazernojj-obrabotki.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Станок для лазерной обработки</a>
Устройство для динамической балансировки роторов лучом лазера
Номер патента: 1226091
Опубликовано: 23.04.1986
Авторы: Абрамов, Баранов, Опарин, Суминов
МПК: G01M 1/38
Метки: балансировки, динамической, лазера, лучом, роторов
...электронный блок балансировочного станка 0-го класса типа "Луна" 6365/0027.Напряжение, характеризующее дис- баланС в требуемой плоскости коррекции, воспринимается пороговым элементом 15, формирующим прямоугольные импульсы, начальная фа"а которых несет информацию об угле дисбаланса, После сдвига на определенный угол блоком 16 формирования строба фазы "тяжелого места" эти импульсы соответствуют положению "тяжелого места" ротора в фокусе объектива 3 лазера 4.Цикл коррекции дисбаланса происходит следующим образом.С выхода делителя 35 (т.е. с третьего выхода блока 13) поступают импульсы с периодом следования импульсов лазера 4 конкретного типа (например для установки "Квант/16" Г=О, Гц; "Квант" Г=10 Гц и т.д.). Эти импульсы своим передним...
Устройство для динамической балансировки роторов лучом лазера
Номер патента: 1434301
Опубликовано: 30.10.1988
Авторы: Абрамов, Баранов, Горелочкин, Опарин, Суминов
МПК: G01M 1/38
Метки: балансировки, динамической, лазера, лучом, роторов
...водной, а второе - в другой плоскости коррекции,Напряжение, характеризующее дисбаланс в требуемой плоскости коррек-.ции, воспринимается пороговым элементом 15, Формирующим прямоугольные импульсы, начальная Фаза кото-. 1434301 6рых несет информацию об угле дисба-ланса. После сдвига на определенныйугол блоком 16 формирования строба5Фазы дисбаланса эти импульсы соответствуют положению "тяжелого места"ротора в Фокусе объектива 3 лазера 4,Одновременно импульсы с выходадатчика 34 положения конца прорези10 после задержки на величину о мультивибратором 38 поступают непосредственно или через управляемый фазовращатель 39 и переключающий цифровой ключ 40 на пятый вход элементаИ 17, Это неебходимо для компенсации времени задержки от момента подачи...
Устройство для динамической балансировки роторов лучом лазера
Номер патента: 1515086
Опубликовано: 15.10.1989
Авторы: Баранов, Барановский, Куликов, Опарин, Суминов, Ценц
МПК: G01M 1/38
Метки: балансировки, динамической, лазера, лучом, роторов
...через второй элемент2 И 29 и блок 28 управления насосомвключается насос 27, Дисбаланс ротора в плоскостях коррекции воспринимается датчиками 5-7 и преобразуетсяизвестным способом блоком 8 измеренийв два синусоидальных напряжения, первое из которых (фиг, 2, 1 ) характеризует величину и угол дисбаланса в одной, а второе - в другой плоскостикоррекции, Роль этого блока можетвыполнять, например, электронный блокбалансироночного станка типа лунаили аналогичного типа,Напряжение, характеризукщее дисбаланс в требуемой плоскости коррекции,воспринимается пороговым элементом15, формирующим прямоугольные импульсы, начальная фаза которых носит информацию об угле дисбаланса.После сдвига на определенный уголблоком Ь формирования строба...
Устройство для динамической балансировки лучом лазера роторов
Номер патента: 1130753
Опубликовано: 23.12.1984
Авторы: Баранов, Климов, Котельников, Самоделкин, Суминов
МПК: G01M 1/38
Метки: балансировки, динамической, лазера, лучом, роторов
...ротор устанавливаете ся на подвесе 2 и подключается приводом 4 к блоку 19 ключей. Запускает-. ся блок 34 включения и сброса и им-., пульс с его выхоца задним фронтом1130753 2 ф Д ,ьи -,ЬГГ Ьф Тьпо 2 ( 1 ( 1 р 2", (2 где 3устанавливает триггеры 35 и 36 режима. и запрета в состояние логической еди ницы. Триггер Зб запрета удерживает от срабатывания блок 12 синхронизации и триггер 35 режима от срабатывания 5 до разгона ротора и ВОС 5 дочастоты балансирования, Сигнал логической единицы. с выхода триггера 35 режима включает блоки 16 и 19 ключей (блок 16 ключей через элемент 30 2 И ),через которые на приводы 4 и б ротора .и ВОС 5 с выхода источника 17 переменного тока начинают поступать переменные токи рабочей частоты. Ротор и ВОС 5...
Устройство для обработки материалов лучом лазера
Номер патента: 986683
Опубликовано: 07.01.1983
Авторы: Гликин, Скрипничинко
МПК: B23K 26/02
...способности обрабатываемого материала.Чем выше отражательная способностьэлемента, тем больше интенсивность из.з лучения лазера, и наоборот. Таким образом, если перед началом обработкипленки с высокой отражательной, способностью, которая нанесена на материал с меньшей отражательной способностью, 10 установить такое значение интенсивности, цтобы она была мала для обработки материала с меньшей отражательной способностью, то при попадании излучения на участок обрабатываемого материала с большей отражательной способностью интенсивность излучения возрастет и этот участок будет обрабатываться, Как только слой пленки будет испарен, интенсивность излучения уменьшится и 50 нижний слой, нанесенный на подложку, обрабатываться не будет.На...
Предыдущий патент: “способ лазерной обработки диэлектриков “лэтган” и устройство для его осуществления”
Следующий патент: Способ контактной сварки в замкнутой камере
Случайный патент: Устройство передачи дискретных значений речевых сигналов