Электропаяльник для пайки и отпайки многощтырьковых радиоэлементов

Номер патента: 1816583

Опубликовано: 23.05.1993

Авторы: Коробко, Мамаев, Опарин, Пронин, Фролов

МПК: B23K 1/005

Метки: контролем, лучом, пайки, печатные, платы, радиоэлементов, световым, температуры

...лучом радиоэлементов на печатные платы с контролем температуры был реализован при пайке выводов интегральных микросхем к контактным площадкам печатной платы, пайке коммутационных панелей и штырьковых разъемов на печатных платах,В качестве примера предлагается рассмотреть пайку печатной платы с двусторонней неравномерной набивкой радиоэлементов с планарными и штырьковыми выводами. Материал печатной платы - стеклотекстолит с двусторонней медной фольгировкой СФ, отверстия в печатной плате металлизированы, условия теплоотвода от контактных площадок различны и зависят от массы подходящего проводника дорожки ПП. Размеры печатной платы 100 х 200 х 2 мм. Для поверхностного монтажа использовались 14, 16, 18 и 24-выводные интегральные...

Номер патента: 260369

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Афанасьева, Всесоюзный, Гржимальский, Маркова, Петрунин

МПК: B23K 1/00, B23K 35/38

Метки: бесфлюсовой, мягкими, пайки, припоями, твердыми

...осуществляют путем 20 нагревания изделий в защитной среде с активизирующими добавками, отличаюи,ийся тем, что, с целью снижения токсичности защитной среды и ее удешевления, в защитную среду вводят пары хлористого аммония в количе стве 0,1 - 0,001%. Известные способы бесфлюсовой пайкимягкими и твердыми припоями, при которыхпайку осуществляют путем нагревания изделий в защитной среде с активизирующими добавками, недостаточно дешевы, Кроме того,эти добавки токсичны.Предлагаемый способ отличается тем, чтов защитную атмосферу вводят пары хлористого аммония в количестве 0,1 - 0,001%,Это снижает токсичность защитной среды иудешевляет ее,При пайке хлористый аммоний в фарфоровом и кварцевом стакане помещают в печьили контейнер. Пары хлористого...

Номер патента: 482263

Опубликовано: 30.08.1975

Автор: Лерман

МПК: B23K 3/06

Метки: волной, лужения, пайки, припоя

...сопловую панель 1 с каналом 2 для подачи припоя, в верхней стенке которого имеется ряд сообщающихся с каналом насадок 3 со щелями 4. Насадки выполнены под углом а к горизонтальной оси панели и к направлению движения паяемых элементов (платы).Угол а может быть выбран в пределах О((а(90. Расстояние между насадками выбирается таким, чтобы каждая волна припоя,5 выходящая из насадок на небольшую величину, перекрывалась соседней.Устройство работает следующим образом.Припой подается в канал 2. При этом образуется ряд параллельно расположенных10 волн припоя, каждая из которых перекрывается соседней. Этот ряд образует в проекциинепрерывный фронт волны припоя, Волнаприпоя, создаваемая каждой из насадок,сдвигает предварительно нанесенный флюс...

Номер патента: 617196

Опубликовано: 30.07.1978

Авторы: Гельфгат, Иукканен, Ципий

МПК: B23K 1/08

Метки: волной, лужения, пайки, припоя

...магнитного поля обмоток питания через магннтопровод,временном увеличении дройства.Поставленная цель достигается тем, чтосредства для формирования волн припоя вы полнены в виде двух герметичных камер сразмещенными внутри них соплами, соединенными с ванной, а нагнетатель выполнен в виде индуктора бегущего магнитного поля с пластиной, расположенной над индуктором и О установленной с возможностью перемещения,пластина выполнена из ферромагнитного материала.На фиг, 1 показано устройство для пайкии лужения волной припоя, общий вид; нафиг. 2 - то же, вид сверху.Устройство состоит из ванны 1, зной припоем, двух герметичных камерлами 3, установленных в ванне, плодуктора 4 бегущего поля, расположенО ванной, и металлотракта 5.Устройство...

Номер патента: 707709

Опубликовано: 05.01.1980

Авторы: Буслович, Гельфгат, Иукканен, Коциньш, Симсон, Фрицберг

МПК: B23K 3/06

Метки: волной, лужения, пайки, припоя

...гх волн припоя. Каждый отсек 2 гкдргнлнческн сосди.707709вляется грубая,ступенчатая регулировка волныприпоя, Кроме ого, стенка 6 с перегородкой7 образуют гидравлический компснсатор, благодаря которому при изменении высоты волны5гасятся ее колебания.Для плавной, бесступенчатой регулировкивысоты волны припоя используют пластину 10,вдвигая ее в зону действия индуктора иливыдвигая из нее.10 Нагрев припоя и регулировка температурыего в каждой камере осуществляется индивиду.альной системой 5 нагрева. Температура каждойволны может быть различна. нен с герметичными камерами 3, снабженными соплами 4, а каждая герметичная камера имеет автономную систему 5 нагрева. Каждый отсек 2 имеет стенку 6, являющуюся общей с герметич ной камерой.К стенкам 6...