Способ измерения непрямолинейности цилиндрических отверстий

(51)5 О 01 В 11/27 ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯК АВТОРСЙОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ фф,4 фри сО 03 с 08 етснихРЕСПУБЛИН ГОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМПРИ ГКНТ СССР(56) Методы неразрушающих испытаний/Под ред. Р,йарпа. - М,: Мир, 1972,с. 191-1,94,(54) СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ НЕПРЯМОЛИНЕЙНОСТИ ЦИЛИНДРИЧЕСКИХ ОТВЕРСТИЙ(57) Изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения непрямолинейности цилиндрических отверстий,Целью изобретения является расширение типоразмеров контролируемыхотверстий за счет отсутствия ограничений количества отражений пучковлучей в контролируемом цилиндрическом отверстии. Пучки лучей лазера 1собираются объективом 2 на диафраг 801702177 А 1 2ме 3, После диафрагмы пучок лучейпопадает в цилиндрическое отверстие 4и после многократных отражений отцилиндрической поверхности отверстия4 в плоскости регистрации Р образуется кольцевая картина, при этомвеличина непрямолинейности определяется по эксцентриситету колециз соотношения 0 = Ф; С а расХ 2"стояние Х от контролируемого сечения до плоскости регистрации определяется по формуле ХС-2 в, где- величина непрямолинейности контролируемого сеченияцилиндрического отверстия; И - числоотражений пучков лучей; С - расстояние от центра пучков лучей до плоскости регистрации Р; а - величинаэксцентриситета кольцевой картины,1 ил,1702177 30 35 40 ансх 2 7 О: -Ц- С х 2 1 СХ2" СХ =2" гдеИзобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения непрямолинейности цилиндрических отверстий,Цель изобретения - расширение типоразмеров контролируемых отверстийза счет отсутствия ограничений количества отражений пучков лучей в контролируемом цилиндрическом отверстии. 10На чертеже представлена функциональная схема устройства, реализующего предложенный способ,Устройство содержит формировательсферического пучка лучей, выполненный в виде лазера 1 и последовательноустановленных по ходу пучка лучейлазера 1 объектива 2 и диафрагмы 3,После диафрагмы 3 устанавливают контролируемое цилиндрическое отверстие 204 так, чтобы его ось проходила через диафрагму 3. После контролируемого цилиндрического отверстия 4 вплоскости регистрации Р размещаютрегистрирующий узел в виде фотоплас.25тинки или оптического наблюдательного прибора (не показаны),Пучки лучей лазера 1 собираются объективом 2 на диафрагме 3. После диафрагмы 3 пучок лучей попадает в цилиндрическое отверстие 4 и после . многократных отражений от цилиндрической поверхности отверстия 4 в плоскости регистрации Р образуется кольцевая картина, при этом величина непрямолинейности определяется по эксцентриситету колец иэ соотно- шения а расстояние Х от контролируемогосечения до плоскости регистрации оп 45ререляется по формуле где 3 - величина непрямолинейностиконтролируемого сечения цилиндрического отверстия;Б - число отражений пучковлучей,С - расстояние от центра пучковлучей (диафрагмы 3) до 55плоскости регистрации; а - величина эксцентриситетаИкольцевой картины,Вывод указанной выше формулы основан на законах геометрической оптики,Перемещением контролируемого цилиндрического отверстия 4 вдоль егооси можно измерять форму любого сечения контролируемого цилиндрического отверстияПо сравнению с известными техническими решениями предложенный способ обеспечивает измерения непрямолинейности большего числа типоразмеров цилиндрических отверстий за счеттого, что отсутствует ограничениеколичества отражений в контролируемом цилиндрическом отверстии,Формула и з о б р е т е н и яСпособ измерения непрямолинейности цилиндрических отверстий, заклю-.,чающийся в том, что на цилиндрическую поверхность отверстия направляют пучок лучей, получают в плоскости регистрации, расположеннойпосле отверстия, картину распределения освещенности, измеряют параметры этой картины, по которым рассчитывают величину непрямолинейности,о т л и ч а ю щ и й с я тем, что,с целью расширения типоразмеров контролируемых отверстий, на цилиндрическую поверхность отверстия направляют сферический пучок лучей с центром на оси отверстия, величину непрямолинейности определяют по эксцентриситету колец в картине распределения освещенности из соотношения а расстояние Х от контролируемогосечения до плоскости регистрации определяют по формуле величина непрямолинейностиконтролируемого сечения,число отражений пучков луча,расстояние от центра пучковлучей до плоскости регистра"ции,величина эксцентриситетакольцевой картины.