Поверхность теплообмена

Номер патента: 459818

Опубликовано: 05.02.1975

Авторы: Блинов, Козырь, Яловега

МПК: H01L 7/68

Метки: пластин, поверхности, полупроводниковых

...самоуравновешивания подвешены к станине 13 на двойномшарнире Гука 14.Работает устройство следующим образом.1 О В гнезда ротора 2 закладывают полупроводниковые пластины и поджимают их сверху с помощью пневмопривода 5 крышкой 4 с усилием, гарантирующим давление на поверхность ротора 4 - 15 кг/см, Затем в полость 15 между ротором 2 и крышкой 4 из резервуара6 под давлением подают нагретую до температуры 80 - 90 С смесь особо чистой воды с растворенным в ней кислородом. Когда в магистрали подачи воды давление возрастает до 20 появления тонкого слоя жидкости, истекающей по кольцевому зазору, включают центрифугу 1. По окончании процесса очистки выключают центрифугу, прекращают подачу смеси, поднимают крышку и освобождают ротор 25 от очищенных...

Номер патента: 1389997

Опубликовано: 23.04.1988

Авторы: Винников, Гриценко, Карась, Эпштейн

МПК: B24B 3/34

Метки: задних, пластин, поверхностей, режущих, шлифования

...г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Изобретение относится к инструментальному производству и касается изготовления режущих пластин.Цель изобретения - повышение производительности обработки и расширение технологических возможностей путем обеспечения шлифования режущих пластин различных размеров без переналадки устройства.На чертеже показано устройство, общий вид.Устройство выполнено в виде основания 1, которое крепится к столу заточного или шлифовального станка (не показаны). На основании 1 соосно установлены ведущий шпиндельный узел 2 с валом 3 и ведомый шпиндельный узел 4 с втулкой 5 и валом 6. На валу 3 установлен с возможностью перемещения вдоль его оси и соосно с ней загрузочный элемент, выполненный в виде втулки 7. Внутри втулки 7...

Номер патента: 1409863

Опубликовано: 15.07.1988

Авторы: Гоман, Чухлиб, Шестаков, Юдицкий

МПК: G01B 11/24

Метки: геометрических, параметров, пластин, поверхности, полупроводниковых

...1 Формируется фокусирующей системой 2 в пучок, который направляется зеркалами 3 и 4 на сканаторы 5 и б. При вращении сканаторов 5 и б пучок смещается параллельно своей оптической оси. Такимобразом, на выходе сканатора б формируется развертка в плоскости, перпендикулярной оси распространенияпучка,Пройдя сканатор б,пучок попадаетна третье зеркало 7 и направляетсяим на отрицательную сферическую линзу 8 и далее на конденсорную линзу 9.На выходе линзы 9 пучок отклоняетсяот оптической оси, попадает либо наполупроводниковую пластину 11 либона калибровочное кольцо 12 и отражается от них, Отразившись от пластины, пучок проходит линзы 9 и 8,зеркало 7, сканаторы б и 5, отраженный пучок смещается к оси распространения падающего пучка, однако...

Номер патента: 1458165

Опубликовано: 15.02.1989

Авторы: Винников, Гриценко, Карась, Эпштейн, Яцечко

МПК: B24B 3/34

Метки: задних, пластин, поверхностей, режущих, шлифования

...соосно установленыведущий шпиндельный узел 2 с валом3 и ведомый шпиндельный узел 4 свтулкой 5 и валом 6. На корпусе 7ведомого шпиндельного узла 4 соосноему установлен загрузочный элемент 8со скобообразными базовой (установочной) поверхностью и центрирующей конической поверхностью 9, Загрузочный элемент 8 закреплен при помощификсаторов 10 в продольных канавках11 корпуса 7, позволяющих перемещатьзагрузочный элемент 8 в осевом направлении. Втулка 5 и вал 6 могутперемещаться в осевом направлениис помощью винта 12. Вал 3 ведомогошпиндельного узла 2 приводится вовращение электродвигателем (не показан)Угол охвата Р скобы, центрирующей затачиваемую режущую пласти 35ну 13, равен 220-250 , а угол охватаЫ. базовой поверхности загрузочногоэлемента 8...

Номер патента: 1672308

Опубликовано: 23.08.1991

Авторы: Войналович, Жаворонков, Маслов, Свирцов

МПК: G01N 21/01

Метки: дефектов, микроскопических, пластин, поверхности, полупроводниковых

...1 излучения, оптическую систему 2 для формирования и направления падающего пучка излучения, с помощью ко 1 орой повеохность полупроводниковой пластины освещается коллимированным пучком света, предметный столик 3, снабженный приводами вращения 4 и возвратно-поступательного перемещения 5 последний включает шаговый электродвигатель б и кинемэтическую передачу 7, обеспечивающую перемещение предметного столика 3 на шаг, равный диаметру пятна пучка излучения, оптическую систему 8 для сбора рассеянного излучения, фотоприемник 9, на который поступает рассеянное излучение с выхода оптической системы 8 для сбора рассеянного излучения, счетчик 10 электрических импульсое, соединенный с фотоприемником 9, систему регистрации углового положения...