Способ электронно-лучевого гравирования
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
(54)(57) СПОСОБ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГОГРАВИРОВАНИЯ преимущественно приизготовлении печатных форм, включающий формирование на обрабатываемойповерхности воздействием на нее 1 С 1 04 Н 01 Ю 37/ электронным лучом ячеек различнойглубины и отключение обрабатывающеговоздействия луча на обрабатываемуюповерхность при относительном переводе его от одной зоны обработки кдругой, о т л и ч а ю щ и й с я тем,что, с целью повышения качествагравирования, отключение обрабатываю.щего воздействия луча при его относительном переводе от одной зоныобработки к другой осуществляют илирасфокусировкой луча, или путем дискретного многократного его прерывания с интервалами воздействия наобрабатываемую поверхность длительностью, при которой отсутствуетэффект обработки.1123539 Составитель И. БоровковРедактор С. Патрушева Техред Т,дубинчак Корректор И, Эрдейи Заказ 8160/45 Тираж 368 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 1Изобретение относится к технике гравированчя, в частности к области изготовления печатных форм.Известен способ электронно-лучевого гравирования преимущественно при изготовлении печатных форм, включающий формирование на обрабатываемой поверхности воздействием н 4 нее электронным лучом ячеек различной . глубины:и отключение обрабатывающе, го воздействия луча на обрабатываемую поверхность при относительном переводе его от одной зоны обработки к другой 1 1.Недостатком известного способа является недостаточно высокое качест. во гравирования, вызванное влиянием пространственного заряда на электронный луч.Цель изобретения - повышение качества гравирования.Цель достигается тем, что согласно способу электронно-лучевого гравирования преимущественно при изготовлении печатных форм, включающему д 5 формирование на обрабатываемой поверхности воздействием на нее электронным лучом ячеек различной глубины и отключение обрабатывающего воздействия луча на обрабатываемую поверхность при относительном переводе его от одной зоны обработки к другой осуществляется отключение обрабатывающего воздействия луча при.его относительном переводе от одной зоны обработки к другой путем расфокуси 35 рования луча или дискретным многократным его прерыванием с интервалами воздействия на обрабатываемую поверхность длительностью, при которой отсутствует эффект обработки.Электронный гравированный органосуществляет относительное по отно"шению к обрабатываемой поверхностиперемещение над поверхностью подлежащей гравировке формы. Под воздействием электронного луча в местах,необходимых для формирования растровых точек, происходит электроннаяобработка металла, В результате этогоформируются чашеобразные углубления,величина и глубина которых зависит отинтенсивности луча, длительности еговоздействия и места расположения егофокальной плоскости.В процессе перемещения гравировального органа в очередную точкугравирования производится расфокусировка луча. Это приводит к тому, чтоэлектронный луч не влияет на обрабатываемую поверхность.При достижении очередной точкигравирования луч снова фокусируется ипроцесс обработки поверхности возобновляется. Из-за того, что положениелуча, его интенсивность в самомгравировальном органе не изменялись,остается стабильным и пространственный заряд внутри объема источникалучей. СтабильнОсть пространственного заряда влияет на стабильностьположения электронного луча и темсамым на качество гравируемых ячеек.Эффекта стабильности пространственного заряда можно добиться такжеесли вместо расфокусировки лучаосуществляется дискретное многократное его прерывание. Длительностьимпульсов воздействия луча на обрабатываемую поверхность при этомвыбирается исходя из условия отсутствия эффекта обработки,
СмотретьЗаявка
3255242, 03.03.1981
Др. -Инж. Рудольф Хеяпь ГмбХ
ЗИГФРИД БАЙСВЕНГЕР, ВОЛЬФГАНГ БОППЕЛЬ, ДИТЕР ГРИГЕР
МПК / Метки
МПК: B41C 1/04
Метки: гравирования, электронно-лучевого
Опубликовано: 07.11.1984
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1123539-sposob-ehlektronno-luchevogo-gravirovaniya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ электронно-лучевого гравирования</a>
Предыдущий патент: Трубчатый ролик для машины непрерывной разливки
Следующий патент: Устройство для перемещения и передачи подвесок подвесного цепного конвейера
Случайный патент: Устройство для измерения разности фаз двух электрических сигналов