Способ изготовления электростатической электронно оптической системы

СОЮЗ СОВЕТСКИХлиамескипРЕСПУБЛИК ЗШ Н 01,Х 9/02, 13 ОТБЫЛ АВТОРСКОМ ИДЕТ ЕЛЬСТВУ бпоп. 1, отлича тем, что облучение осу утем последовательного электронного пучка на Спо с я ществляютотклонения верхности пластин. ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРПО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ(72) В.В. Рыбалко, А.С. Савкин, А.В, Суворинов и А.С. Тихонов (71) Московский институт электронного машиностроения(56) 1, Айшей А., "Е 1 есггоп Ьеаш 1 соя гарЬУ Гог дпге 8 гаей сдгсыг. ЕаЬг- саоп", "РЬуз ТесЬпо 1" ч 11 ь 1980, У 5, р. 169-174.2. Авторское свидетельство СССР В 85302 ф кл. Н 01 Л 29/62 ф 1979 (прототип).(54) (57) 1. СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯЭЛЕКТРОСТАТИЧЕСКОЙ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКОЙ СИСТЕМЫ, включающий нанесениена несущие диэлектрические пластинырезиста, облучение резиста электронным пучком, последующее травление исборку, о т л и ч а ю щ и й с ятем, что, с целью повышения точности изготовления, облучение и травление осуществляют после сборки пластин,1112430 30 Составитель В, Гаврюшин Редактор В. Данко Техред Корректор И. МускаЗаказ 6461/37 Тираж 682 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Изобретение относится к электронной технике, в частности к методамизготовления электронно-оптическихсистем (ЭОС) электронно-лучевых приборов. 5Известен способ изготовления отдельных элементов ЭОС методами электронолитографии, включающий нанесениена подложку реэиста, облучение егоэлектронным пучком и последующее 10травление 11,Данный способ не обеспечивает высокой точности изготовления всей ЭОС.Наиболее близким по техническойсущности к изобретению является способ изготовления электростатическойЭОС, включающий нанесение на несущиедиэлектрические пластины резиста,облучение резиста электронным пучком,последующее травление и сборку 121. 20По известному способу возможнодостижение более высокой точностиизготовления за счет размещения напластинах нескольких электродов, однако при сборке ЭОС остаются погрешности взаимного положения электродов.Целью изобретения является повышение точности изготовления ЭОС.Указанная цель достигается тем,что согласно способу изготовленияэлектростатической электронно-оптической системы, включающему нанесениена несущие диэлектрические пластинырезиста, облучение резиста электронным пучком, последующее травление исборку, облучение и травление осуществляют,после сборки пластин,При этом облучение осуществляютпутем последовательного отклоненияэлектронного пучка на поверхности 40пластин.Сущность способа заключается вследующем.На каждую из диэлектрических пластин наносят резист и осуществляют 45 сборку электронно-оптической системы, жестко соединяя пластины в блок в том виде, в каком он устанавливается в прибор. Собранный блок размещают в приборе и последовательно облучают поверхности пластин в соответствии с требуемой формой электродов. Далее блок снимают и осуществляют травление пластин. Точность полученных таким образом электродов на пластинах определяется точностью облучения пластин, которая может быть достаточно высокой, При этом погрешности, возникающие при сборке ЭОС, исключаются.П р и м е р. Изготовление отклоняющей системы, содержащей два противолежащих электрода.На несущие пластины наносят резист и собирают в блок, который устанавливают в канал электроннолучевого прибора. Далее осуществляют облучение пластин. При этом по крайней мере на одну пластину подают ступенчатовозрастающее напряжение с шагом, обеспечивающим отклонение пучка на узел, меньший угловой апертуры пучка на входе в отклоняющую систему. Напряжение увеличивают до двукратного рабочего напряжения для облучения всей требуемой поверхности пластин. Например, при расстоянии между пластинами 2 мм и угловой апертуре пучка на входе О, 1 рад увеличивают напряжение от 0 до 100 В с шагом 5 В. При токе пучка 10 мА время облучения составляет 10 с. Затем,облученный резист стравливают, и отклоняющая система может быть использована в рабочем режиме. Предложенный способ позволит создать более прецизионные электрические ЭОС и повысить точность управления электронным лучом в приборе.