Способ возведения подземной части сооружения
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
Составитель В. КорольковРедактор Н. Пушненкова Техред М.Тенер Корректор О. Тигор Тираж 673 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб д. 4/5Заказ 8988/30 Филиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 1036Изобретение относится к строительству и касается возведения подземнойчасти сооружения гражданского, промышленного или гидротехнического назначения. 5Известен способ возведения подземнойчасти сооружения, включакзпий разработкутраншеи, монтаж в. ней стеновых панелей,и разработку грунта внутри сооружения 13. 10Наиболее близким к изобретению является способ возведения подземной части сооружения, включакхций разработкупродольных траншей, установку в нихпанелей, выемку грунта между траншеями, установку распорнцх элементов имонтаж перекрытий 21,Недостатком известных способов является поярусные разработки грунта внулри сооружения и необходимость установ Оки анкеров или распорок для обеспеченияустойчивости стен подземной части сооружения, что усложняет производство работ.Целью изобретения является упрощениепроизводства работ. 25Укаэанная цель достигается тем, чтосогласно способу возведения подземнойчасти сооружения, включакзцем разработку продольных траншей, установку в нихпанелей, выемку грунта между траншеями, ЗОустановку распорных элементов и монтажперекрытий, выемку грунта производят вдве очереди, причем в первую очередьгрунт разрабатывают в виде поперечныхтраншей и во вторую очередь разрабаты-.вают остальной грунт,а в качестве распорных элементов используют вертикальныерамы и их установку производят в поперечные траншеи при этом разработкугрунта первой очереди и установку распор 4ных элементов выполняют перед установ 40кой панелей, а разработку грунта второйочереди - после установки панелей. На чертеже изображена схема возведения подземной части сооружения предлагае мым способом. 847 2Способ осуществляется следукзпим образом.В грунте разрабатывают траншеи 1 подпанели 2 с использованием глинистоготиксотропного раствора. Одновременно сразработкой траншей 1 под панели 2 разрабатывают траншеи 3 под рамы 4, причем траншеи под рамы 4 отрывают перпендикулярно траншеям 1,В траншеи 3 устанавливают рамы 4,после чего в траншеи 1 опускают панели2, при этом торцовые грани рам 4 используют как направляющие для панелей,2,которые на опорной части имеют для облегчения опускания подрезку,После установки в траншеи 1 панелей2 пристенное пространсгво тамцонируется, при этом для исключения попадания,гампонажного раствора в траншеи 3, гдеустановлены рамы 4, в местах примыкания траншей 3 к траншеям 1 устанавливаются ограничители (не показаны).После набора прочности тампонажнымраствором производится разработка грунта внутри сооружения на попую его глубину при атом рамы 4 выполняют роль распорньтх элементов обеспечивающих егоустойчивость а затем производится монтаж перекрытий,Использование предлагаемого способав строительстве значительно упроститпроцесс возведения сборной стены в грунте,позволит отказался ог операций повозведению анкеров для осуществлениякоторых необходимо нрименение специальныхбуровых станков для горизонтального инаклонного бурения, от домкрагных установок, а также позволит значительно сократить общий срок строительства за счетсовмещения процессов по фиксации нанелей при установке в траншею и по обеспечению устойчивости и жесткости на период возведения и эксплуатации сооружения, а также за счет возможности осуществлять разработку грунта внутри сооружения на полную его глубину.
СмотретьЗаявка
3420902, 08.04.1982
НАУЧНО-ПРОИЗВОДСТВЕННОЕ ОБЪЕДИНЕНИЕ "СОЮЗСПЕЦФУНДАМЕНТТЯЖСТРОЙ"
ПЕРШИН ВЛАДИМИР ГЕОРГИЕВИЧ, КАРДАШ АЛЕКСАНДР ЦИРИКОВИЧ
МПК / Метки
МПК: E02D 29/05, E02D 5/20
Метки: возведения, подземной, сооружения, части
Опубликовано: 23.08.1983
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1036847-sposob-vozvedeniya-podzemnojj-chasti-sooruzheniya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ возведения подземной части сооружения</a>
Предыдущий патент: Фундамент здания, сооружения
Следующий патент: Компенсатор неравномерной осадки оснований зданий и сооружений
Случайный патент: Устройство для программного управления