Способ изготовления многослойных материалов

Номер патента: 1468828

Опубликовано: 30.03.1989

Авторы: Богуто, Чернышов

МПК: B65G 49/02

Метки: вещества, изделия, нанесения, слоя

...доориентирующего конвейера 3, и дозиру.ющие приспособления 18, расположенныепосле ориентирующего конвейера, должны находиться на минимальном расстоянии друг от друга, Поэтому дозирующиеприспособления 16 и 17 располагаютсянад плоским мостиком 5, а дозирующиеприспособления 18 - над мостиком 6,Во время нанесения слоя веществаустойчивое расположение прямоугольнойпластины достигается, если центртяжести пластины находится на мостиках 5 или 6, По этой причине длинамостика 5 должна не менее величины1/2 Ь - половины длины короткой ппас"тины, а длина мостика 6 не менее 1/21 - половины размера длинной стороны пластины,На подающем конвейере 2 прямоугольные пластины ориентированы своейкороткой стороной, величина которойравна Ь, параллельно...

Номер патента: 187716

Опубликовано: 01.01.1966

Авторы: Зейгарк, Конураев, Симферопольское, Смагин

МПК: B05C 5/02, B21D 51/46, B23K 3/06

Метки: веществ, нанесения, поверхности, соединяел1ые, уплотняющих

...вещества при его выдаче и одновременную прочистку сопла. Это достигается тем, что запорный клапан и соприкасающаяся с ним поверхность сопла выполнены цилиндрическими.Кроме того, для предотьращения выпадения осадка рекомендуется шток клапана снабдить лопастями, которые перемешивают уплотняющее вещество при возвратно-поступательном двияении клапана. Работа устроиства осуществляется следуюшпм образом.При поступлении объекта, на который должно быть нанесено уплотняющее вещество, 5 для подьема запорного клапана подается сглгнал любым способом (механическим, электромагнитным и другими). Уплотняющее вещество, находящееся под давлением, поступает через сопло на объект. По окончании цикла 10 паггесегггг 5 г вещества клапан под действиемпружины...

Номер патента: 457020

Опубликовано: 15.01.1975

Авторы: Бережной, Бокатий, Гончаров, Даньшин, Кононенко, Миллер, Подопригора, Шаповалов

МПК: G01N 25/02

Метки: зоне, конвейерной, обжига, окатышей, поверхности, слоя, состояния

...и рег 2ламентируется технологической картой в зависимости от типа концентрата, заданной основности и типа флюсующих добавок, При существующих способах контроля невозможно получать объективную информацию о состоянии поверхности слоя в зоне обжига, что затрудняет ведение процесса в оптимальном режиме.Предлагаемый способ контроля состояния поверхности слоя окатышей в зоне обжига основан на одновременном измерении и сравнении температуры газов под слоем и радиационной температуры слоя, что повышает производительность установки и обеспечивает получение окатышей высокого качества.Истинная температура материала определяется по формуле457020 Тн=Т,+ЛТ,Составитель С. Беловодченко Техред Г. Дворина Корректор Т. Добровольская Редактор Л. Тюрина...

Номер патента: 1377709

Опубликовано: 28.02.1988

Авторы: Кольцов, Кудряшова, Нечипоренко

МПК: G01N 27/56

Метки: веществ, кислотности, поверхности, твердых

...даны кинетические кривые изменения рН воды после внесения навески образца; на фиг.2 - калибровоч-. ный график (навеска 01 г, воды 10 мл)Исследуемую навеску порошка твердого вещества помещают в воду, и измеряют величину рН вытяжки в дина мических условиях при времени 5- 30 с, Кислотность поверхности Но находят по калибровочному графику Нф = = Г(Н) для заданного количества порошка и объема воды, где На - кислот ность поверхности, найденная спектрофотометрически, а рН - кислотность ,водной вытяжки.Нижний предел временного интервала определяется практически реаль ной возможностью сделать первый замер после внесения навески вещества и скоростью его смачивания при перемешивании, Зависимость, построенная по измерениям рН после 30 с...

Номер патента: 1695801

Опубликовано: 15.10.1994

Авторы: Егранов, Непомнящих, Отрошок, Черняго

МПК: H01S 3/11, H01S 3/16

Метки: активных, вещество, затворов, лазерных, пассивных, сред

ВЕЩЕСТВО ДЛЯ АКТИВНЫХ СРЕД И ПАССИВНЫХ ЛАЗЕРНЫХ ЗАТВОРОВ на кристаллах LiF с F-2-центрами окраски, содержащее ионы Mg++ и водорода, отличающееся тем, что, с целью повышения концентрации рабочих F-2-центров, оно содержит водород в концентрации 0,02 - 0,32 мол.% и Mg++в концентрации 0,004 - 0,08 мол.%.