Замасливатель для стекловолокна

Номер патента: 444784

Опубликовано: 23.06.1985

Авторы: Валгин, Мурашов, Новак

МПК: C08G 8/28

Метки: водных, жидких, новолачных, смол, сульфированных

...в надсмольной воде фенол можно связать химически практически полностью,Согласно предлагаемому способу производство жидкой сульфированной 4 2новолачной смолы можно размещатьна предприятиях, не имеющих очистных сооружений, В этом случае используется надсмольная вода, отделенная от новолачной смолы перед еесульфированием, в количестве 20-707от веса обезвоженной смолы, необходимом для разбавления сульфированнойноволачной смолы до необходимой вязкости. Если количество надсмольнойводы недостаточно, то к смоле дляснижения ее вязкости до желаемогоуровня можно добавить чистую воду,Надсмольные воды, используемыедля разбавления сульфированных фенолформальдегидных смол, могут содержать различное количество Формальдегида, Однако...

Номер патента: 990070

Опубликовано: 15.01.1983

Автор: Доминик

МПК: B01D 45/10

Метки: горизонтальную, поверхность, подачи, продукта, распределения, фильтруемого, фильтрующую

...переливно" го порога выполнена зубчатой,а дно первого отсека выполнено наклонным.Зубцы выполнены в виде равнобедренных трапеций.На фиг. 1. изображено устройство, и перечный разрез; на фиг. 2 - то же, продольный разрез.10 Устройство содержит распределитель ную камеру 1, внутри которой размещен первый переливной порог 2, высота которого меньше высоты вертикальных стенок и который разделяет распределительную камеру 1 на два от 5 деления 3 и .4, первое изкоторых ограничено дном 5, выполненным наклонным и содержит патрубок б для входа фильтруемого продукта, а второе ограничено дном 7 с продольным отверстием 8 для выхода фильтруемого продукта и снабжено. вторым сливным порогом 9, выполненным иэ гибкого материала, расположенным под...

Номер патента: 1443819

Опубликовано: 07.12.1988

Автор: Иозеф

МПК: G21F 9/28

Метки: водный, дезактивации, поверхностей, состав

...металла,Очистку зараженной радиоактивными веществами поверхности осуществля"ют следующим образом.Зараженные поверхности обрабатывают предлагаемым водным составом известными приемами, например путем распыления состана или увлажнения им поверхности.При обработке параллельно осуществляются следующие процессы,Травление понерхности материалаиз цемента, бетона или кирпичной кладки . происходит путем химическоговоздействия фтороборной кислоты и/илигексафторкремневой кислоты,Имеющиеся вместе с комплексамифтора фтористые ионы реагируют вводной среде с кальцием иэ цемента ибетона и образуют. нерастворимые в воде осадки н виде фтористого кальция,засоряющие и пропитывающие капилляры.Благодаря пропитке значительно уменьшается степень...

Номер патента: 885167

Опубликовано: 30.11.1981

Авторы: Антоненко, Новиков, Позднякова, Руденко

МПК: C03C 15/00

Метки: поверхности, полирования, продуктов, раствор, стекла, удаления

...и этот раствор нельзя использовать для промывки галлатно-алюминатных стекол, так как полированная поверхность стекла выцелачивается.Цель изобретения - предотвращение выщелачивания. поверхности химически неустойчивого стекла.Указанная цель достигается . тем, что раствор дополнительно содержит ацетат аммония при следующем соотнсяаении компонентов, вес.ЪСерная илиортофосФорнаяили солянаякислота 0.,3-1,5.Ацетат аммония 0,5-2Дистиллированная вода885167 Применение предлагаемого раствора позволит сохранить полированную поверхность оптических деталей под нанесениекачественной защитно-просветляющей пленки, так как полностью . смываются продукты пОлирОвания и предотвращается выщелачивание стекла. Раствор НО,вес.Ф Н 2 БОвес. НРО 4,вес. НСЕ,вес.Ъ 1...

Номер патента: 1589059

Опубликовано: 30.08.1990

Авторы: Заболотский, Подобрянский, Путилин, Хлебников

МПК: G01B 21/22

Метки: базовых, излучателя, оптического, оси, основания, относительно, поверхностей, узла, юстировки

...диафрагму 11, координатно-чувствительной фотоприемник 12, блок 13 обработки, вход кото рого подключен к координатно-чувствительному фотоприемнику 12, индикатор 14, вход которого подключен к выходам фотоприемного блока и блока 13 обработки.30Устройство работает следующим сбразом.На основание устанавливают платформу 4 с,закрепленными на ней диаф. - рагмой 5, зеркалом 8, ирисовой диафрагмой 9, фотоприемником 10, диафрагмой 11, координатно-чувствительным фотоприемником 12, блоком 13 обработки и индикатором 14, а на подставку 2 устанавливают оптический узел 3 в40 виде линз, призм, зеркал: с излучателем. Пучок лучей от излучателя направляют через диафрагму 5 на фотоприемный блок 10, от которого сигнал поступает на индикатор 14, который45...