Активатор процесса сбраживания сахаросодержаших растворов

Номер патента: 852445

Опубликовано: 07.08.1981

Авторы: Алексеев, Вишнев, Мосунов, Синолицин

МПК: B22C 9/03

Метки: вакуум-процессу, литьяпо, поточного

...опок, на каждой секции 16 установлены по два поддона 22 с шибером 23. Поддоны 22 предназначены для установки на них рорм 24.На каруселях 5 и 7 изготовления полу- форм верха и низа на радиальных направляющих 25 установлены подмодельные плиты 14 с моделями для изготовления одинаковых или разных отливок. Подмодельные плиты 14 выполнены с возможностью перемещения посредством привода 26 по радиальным направляющим 25 на опорное перекрытие 13 для полуформы верха и перекрытие 15 для полуформы низа.В акуумные каналыот подмодельных плит 14, установленных на столах каруселей 5 и 7, соответственно соединены с коллекторами 4 и 6, которые, так же как и коллектор 8 заливочной карусели 9, имеют уплотнения 27 на стыке с буртами секций 1 - 3 оси...

Номер патента: 1652023

Опубликовано: 30.05.1991

Авторы: Ильницкий, Ниязбеков, Поповян, Фельдман, Щедрина

МПК: B22C 9/02

Метки: вакуум-процессу, замкнутая, изготовленных, линия, транспортировки, форм

...сетью, а талежки конвейера соединены между собой армированными шлангами и подсоединены с электромагнитными клапанами к опокам. Применение изобретения позволит исключить дополнительные механизмы, служащие для передачи вакуума движущимся формам с многократными подсоединениями. 1 з.п. ф-лы, 2 ил. единены с контактной сетью 5, а тележки конвейера соединены между собой армированными шлангами 6 и подсоединены шлангами 7 с электромагнитными клапанами 8 к опокам 9,Линия транспортировки вакуумных форм работает следующим образом.Установленные на тележках 1 вакуумные насосы 3 включаются и создают в замкнутой полости тележек 1 движущегося конвейера 2 рабочее разрежение. Заформованные вакуумные опоки 9 выставляются на тележки 1 движущегося...

Номер патента: 521896

Опубликовано: 25.07.1976

Авторы: Брача, Величко, Гутманис, Калунянц, Ниедра, Станкевич

МПК: B01D 1/00

Метки: вакуум-концентрирования, процессом, растворов

...изобретения - повышение кратности концентрирования и выхсда продукта.Иля этого регулирование процессом вакуум-концентрирования осуществляют в зависимости от концентрации сухих веществ в растворе путем воздействия на скорость подачи раствора на концентрирование,Целесообразно при повышении концентрации сухих веществ скорость подачи раствора на концентрирование увеличивать.Способ регулирования процессом вакуумконцентрироваиия заключается в том, что в растворе, подаваемом на вакуум-концентрирование, определяют концентрацию сухих веО П И С А Н И Е з 1 в 96ИЗОБРЕТЕНИЯ521896 Составитель Г, БогачеваРедактор А. Бер Техред О, Луговая, Корректор И, Зопотовская Заказ 3462/340 1 ираж 864 ПодписноеШ 1 ИИ 11 И Государственного комитета...

Номер патента: 528348

Опубликовано: 15.09.1976

Авторы: Музыка, Радионов, Соловьев

МПК: C22F 1/10

Метки: вакууме, магнитопроводов, термической

...вакууме при остаточном давлении не более 10 - " мм рт. ст. 11. 15При менениляет получатпроницаемоспродолж аетсВеличина 20 указанных81000 Гс/Э.С целью повышения магнитной проницаемости и производительности процесса предложен способ термической обработки магнито проводов в вакууме, включающий нагрев со скоростью 400 - 500 С/час до температуры 1100 - 1150 С с выдержкой при этой температуре 3 - 6 час, охлаждение до 850 С со скоттостью 100 С/час., далее до 20 С, отличаю е указанного способа не позвоь достаточно высокой магнитной ти, а сам процесс термообработки я до 17 - 18 час,магнитной проницаемости длясплавов составляет 33600 -щийся от известного тем, что охлаждение от температуры 850 до 350 С проводят со скоростью 480 - 500 С/час, от...

Номер патента: 863717

Опубликовано: 15.09.1981

Авторы: Гружинскис, Мачюлайтис, Мишкинис

МПК: C23C 13/12

Метки: вакууме, испарения, термического

...поверхности пластин в напыляемой партии) с соответствующим отверстием 3, остальные отверстия 3 закрываются заслонкой 4. Наныляемые объекты 11 кладутся на плоскую, например графитовую, подставку 10, Иэ установки откачивается воздух, после чего с помощью плавного регулирования подводимой мощности, подставка 10 разогревается до нужной температуры. Затем пропусканием электрического регулируемого тока через испаритель последний разогревается до температуры, необходимой для создания нужной плотности частиц испаряемого вещества в потоке через патрубок 5. (в данном случае нижний). Толщина получаемых пленок определяется скоростью и временем процесса напыленияЧдновременно с напылением в нижнем направлении при необходимости возможно производить...