Способ измерения величины разъедания огнеупора расплавленным стеклом

Номер патента: 1810908

Опубликовано: 23.04.1993

Авторы: Бочкарев, Овчинников, Шлифер, Юдин

МПК: G11B 15/08

Метки: величин, измерений, оптических, физических, цифровой

...электрического импульса в оптический (й 5 А и К 5 Б на фиг. 2) с помощью оптического передатчика. Таким образом, время т 1 (К) одного такта рециркуляции по замкнутым в кольцо оптоэлектронным и светопроводящему трактам устройства равно;(К) =то +эл +7(К),г(К) = - тф,О К А 1 о50 В этом случае, время 1 м(К) трактов рециркуляции импульса равно;55ч (К) = 1 К А 1 ф 0 + 11 (т 0 + тэд )0 Таким образом. в описанном датчикеоптической плотности светопропускание К 40 где т 0 и тэл - время задержки импульса е. светопроводящем и оптоэлектронном тракте соответственно;т(К) - задержка импульса в регенера-торе, обусловленная величиной светопропу скания оптического тракта.Как следует из фиг, 2, в приближениипостоянной скорости нарастания напряжения...

Номер патента: 311874

Опубликовано: 01.01.1971

Авторы: Завод, Константиновский, Привень

МПК: C03B 18/00, F27B 17/02

Метки: образцов, стекла, стеклокристаллических, термической

...де двух сообщающихся В камере 4 на шт остью перемещения Размеры камеры 4 аким образом, что ке 7 укреплен с керамический п поршня 8 под ри опусканиозможшень 8. раются поршня Изобретение можетстекольной промышленИзвестное устройствствлять термическуюпример, из стекла иматериалов, содержитметаллом, выполненнщающихся между собляторы,Цель изобретенисъем образцов сции ванны,Достигается это тустановлены стойкицов, а в другой с вния - поршень. О П И С А Н И Е ЗИ 874ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Зависимое от авт. свидетельствабликовано 19,711.1971, БюллетеньДата опубликования описания 5.Х.197 уровень расплава в камере 3 поднимался вы.ше стоек б,Для обогрева ванны устаногуляторы 9.5 При применении для обработки окисляемого расплава в...

Номер патента: 542732

Опубликовано: 15.01.1977

Авторы: Абрикосов, Бужинский, Куркин, Серков, Шашкин

МПК: C03B 5/32

Метки: выработки, расплавленного, стекла, фидер

...контакте со стенками колокола, периферийные же зоны остаются застойными и не усредняются, т, к. размешивание происходит только в горизонтальной плоскости без вертикальной составляющей.Цель изобретения - интенсификация процесса перемешивания стекломассы.Указанная цель достигается тем, что колокол фидера в нижней части над усеченным ко нусом выполнен с отверстиями. На чертеже изображен общий вид устройства.Фидер для выработки расплавленного стекла, содержит камеру 1 с выпускным патрубком 2, колокол 3 с отверстиями 4.Устройство работает следующим образом.Поступающую в камеру 1 стекломассу (начертеже не показано) выпускают через дон ный патрубок 2, При этом, для получения однородной стекломассы колокол 3 чрпводят во вращение. При вращении...

Номер патента: 1778784

Опубликовано: 30.11.1992

Авторы: Астапова, Дудко, Иванов, Копылов, Поливанов, Рыжова

МПК: C10M 105/36, G11B 7/24

Метки: жидкость, запоминающего, иммерсионная, оптического, устройства

...вращаются.в иммерсионной жидкости в малых зазорах, иэ-за чего вязкость иммерсиоиной жидкости определяет мощность вращающего двигателч и, соответственно, нагрев устройства.Известно, что бис(триметилсилокси)дифенилсилан используется в качестве фармацевтических добавок (31, поскольку он является нетоксичным растворителем с низкой вязкостью.Целью изобретения является исключение изменения показателя преломления во времени и снижение вязкости иммерсионной жидкости для оптического запоминающего устройства,Цель достигается тем, что в качестве иммерсионной жидкости для оптического запоминающего устройства применяют бис(три метил силокси)дифенилсилан.Жидкость получают следующим образом.П р и м е р 1. В трехгорлую колбу, снабженную обратным...

Номер патента: 1830053

Опубликовано: 23.07.1993

Авторы: Дэвид, Майкл, Эндрью

МПК: C03C 17/245, C03C 17/30

Метки: покрытий, стекле

...преломления образованного слоя. Применяемые условия и полученные результаты представлены в табл, 1 с соответствующими деталями для Примера 1 для сравнения.Примеры 4-8, Повторилипроцедуру из примера 1, применяя различные газовые смеси и различные отношения этилена к двуокиси углерода, при этом поддерживали постоянное отношение моносилан:этилен плюс двуокись углерода и постоянный общий расход газа. Применяемые условия и полученные результаты представлены в табл, 2,Применение высокого отношения этилен:силан, как в Примерах 4 и 5 привело к образованию очень тонкого нижнего слоя (меньше 55 нм), Уменьшение отношения этилена к силану и увеличение отношения двуокиси углерода к силану сначала и увеличение отношения двуокиси углерода к силану...