Формула

ЛАЗЕРНОЕ УСТРОЙСТВО, состоящее из задающего жидкостного лазера и жидкостных усилителей, двух положительных линз и диафрагмы, расположенной в общем фокусе линз, отличающееся тем, что, с целью повышения энергии излучения и уменьшения его габаритов, жидкостные усилители расположены между диафрагмой и дальней от задающего жидкостного лазера линзой, причем n-й усилитель расположен от диафрагмы на расстоянии ln, равном
,
где d0 - диаметр пучка задающего лазера,
f1 - фокусное расстояние линзы, фокусирующей излучение задающего лазера на диафрагму,
Pус.п - мощность усиливаемого излучения на входе n-го усилителя,
Фус - оптимальная плотность мощности усиливаемого излучения.

Описание

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при создании жидкостных лазеров большой мощности с закачкой лазерными импульсами наносекундной длительности для систем дистанционного контроля состояния атмосферы, высокотемпературной плазмы и т. д.
Целью изобретения является повышение энергии излучения и уменьшение габаритов.
Сущность изобретения поясняется чертежом, на котором показана схема лазерного устройства. На этом чертеже: задающий жидкостный лазер 1, линзы 2 и 3, диафрагма 4, жидкостные усилители 5 и 6.
Устройство работает следующим образом. Излучение задающего жидкостного лазера 1 фокусируется на диафрагму 4 диаметра d, через которую проходит излучение с требуемой пространственно-угловой структурой. Вторая линза 3 преобразует расходящийся лазерный пучок в параллельный пучок с расходимостью = где f2 - фокусное расстояние , линзы 3. Жидкостные усилители 5 и 6 установлены на таких расстояниях l1и l2 от диафрагмы 4, что диаметры усиливаемого пучка D1 и D2 на кюветах усилителей на красителях обеспечивают оптимальную плотность мощности усиливаемого сигнала. Излучение накачки распределяется между усилителями в такой пропорции, что на усилителях обеспечивается оптимальная плотность мощности излучения накачки.
Оптимальная плотность усиливаемого сигнала в жидкостных усилителях имеет место, если эти усилители располагаются от диафрагмы на расстоянии, равном , где do - диаметр пучка излучения задающего лазера; f1 - фокусное расстояние линзы 2, фокусирующей излучение задающего лазера на диафрагму 4; Рус - мощность усиливаемого излучения на входе усилителя, Фус - оптимальная плотность мощности усиливаемого излучения. (56) Frey R, Prader F. Powefull Тunable Infrared Generation by Stimulated Raman Scatte-ring.
Opt. сomm. 1974, v. 12. р. 98-101.
Wallenstein R. , Hansch Т. W. Poweffull dye laser oscillator-amplifier System for high resolution spectroscopy. Opt. сomm. 1975, v. 14, р. 353-357.

Рисунки

Заявка

3711368/25, 19.03.1984

Институт физики АН БССР

Батище С. А, Гурленя В. И, Малевич Н. А, Мостовников В. А

МПК / Метки

МПК: H01S 3/20

Метки: лазерное

Опубликовано: 30.04.1994

Код ссылки

<a href="https://patents.su/0-1176801-lazernoe-ustrojjstvo.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Лазерное устройство</a>

Похожие патенты