Войтек
Полимерный тампонажный состав для крепления и ремонта скважины
Номер патента: 1730430
Опубликовано: 30.04.1992
Авторы: Бабиков, Войтек, Гольдштейн, Данилов, Рагуля
МПК: E21B 33/138
Метки: крепления, полимерный, ремонта, скважины, состав, тампонажный
...собой однородную жидкость темно-коричневого цвета с рН7, с условной вязкостью при 750 С не более 3 с. Содержание одноатомных фенолов 5, содержание фракции фенолов до 280 С не ме1730430 30-455-12 0,6 - 1,2 2,0-4,0 Таблица 1 Со е жание, мас. Компоненты 1,3-1,5 0,8-0,9 4,0-4,1 0,8 - 1,0 1,0-1,2 7,5-7,9 0,3-0,5 9,0-9,3 3,3-3,5 8,0-8,2 7,8-8,021,0-21,4 17,2-17,58,0-8,3 Остальное о 100 нее 52 обьема, Композиционный состав КОФЧ представлен в табл. 1.Цель изобретения достигается благодаря наличию в составе КОФЧ резорцина и его производных, обеспечивающих отверждение состава в щелочной среде с образованием на контакте глинистая корка - тампонажный состав прочного водо- и газо- непроницаемого камня, а также крезола и пирокатехина и их...
Установка для производства уплотненной двересины
Номер патента: 623737
Опубликовано: 15.09.1978
Авторы: Вацлав, Войтек, Зденек, Ян
МПК: B27M 1/02
Метки: двересины, производства, уплотненной
...На краю загрузочной тележки уста;новлена поднимаемая вертикально вверхдиафрагма 16, параллельная воздухораспределителям 11,Через конусообразную рубашку 6 ираму 5 проходит входной патрубок 17 квоэдухораспределителям 11. На противоположной стороне аналогично проходитвыходной патрубок 18, присоединенныйчерез всасывающую трубу 19 к циркуля Отору 20.,Циркулятор через выходную трубу 21 соединен с теплообменником 22и затем с входным патрубком 17,Установка также снабжена патрубками(на чертеже не показаны) для ввода иотвода аммиака, воздуха и гидравличе(кой жидкости. Теплообменник 22 снабженподающим и отводящим трубопроводами(на чертеже не показаны) для теплоносителя20Установка работает следующим образом.После освобождения (отсоединения )...
278416
Номер патента: 278416
Опубликовано: 01.01.1970
Авторы: Болдырев, Войтек, Свиридов, Шевченко
Метки: 278416
...При соблюдении режимов засвечивания фотослоя и про.15 явления вуаль не образуется.Для засвечивания фотослоя используют источник ультрафиолетового света, например лампы типа ПРК, СВДШ. При засвечивании слоя через трафарет лампой ПРК, находя щейся от фотослоя на расстоянии 15 см, требуется экспозиция порядка 1 - 2 сек. Если слой засвечивать через фотопленку или фотопластинку, время экспозиции увеличивается до 15 - 30 сек, При использовании в качестве 25 источника излучения ламп накаливания требуются большие экспозиции (5 - 8 мин).В этом случае получение качественного изображения (после проявления) затрудняется.Небольшой расход серебра и невысокая ЗО стоимость других реактивов делает описываеЗаказ 3929/1 Изд,1702 Тираж 473 ПодписноеЦНИИПИ...