Таэ
Флюс
Номер патента: 488867
Опубликовано: 25.10.1975
Авторы: Волков, Дидковский, Кезик, Микли, Можаев, Таэ, Шелюх
МПК: C21C 5/54
Метки: флюс
...окисных пленок, приводящих к расслоениюполуфабрикатов в процессе их изготовления.Все это приводит,. к весьма низкому выходу годного серебра и сплавов на его основе (50-60% .от веса слитка),Использование состава, имеющего60-75% бария фтористого и 25-35% магнияфтористого характеризуются нестабильнымпроцессом электрошлакового переплава,плохим формированием боковой поверхности25 слитка и наличием большого копор в металле слитка,11 ель изобретения - разрабфлюса для электрошлакового раребра и сплавов на его основе,позволил бы при стабильном ппроцесса обеспечить хорошее фбоковой поверхности слитков спенью чистоты и плотной мика также низкий угар серебра.Это достигается тем, чтостоящий из бария фтористого, дно вводится литий фтористый...