Суачи
Способ экспонирования фоторезиста и устройство для его осуществления
Номер патента: 1238274
Опубликовано: 15.06.1986
Авторы: Вальтер, Вольфганг, Гудрун, Суачи, Ясухиро
МПК: H05K 3/00
Метки: фоторезиста, экспонирования
...в увлажнитель 16, После этого газ фильтруется через фильтр 17 тонкой очистки и направляется во второй теплообменник 18, где его температура сравнивается с температурой в.прост" ранстве между объективом 5 и Фоторезистом 3 и ноддержйвается постоянной . с точностью ф 0,1 С. Если, например, температура составляет 23 С й существует атмосферное давление 760 мм рт.ст.тогда относительная влажность,которая поддерживается в газе,составляет около 353. Увлажненный итемперированный газ подводится кпневматическому фокусирующему механизму 19, который работает при среднем измерительном давлении в 0,03 МПа.Из фокусируюшего механизма 19 газ подается через вход 8 в корпус 7 в пространство между объективом 5 и Фоторезистом 3. При этих условиях...