Шепельска

Номер патента: 412590

Опубликовано: 25.01.1974

Авторы: Всесоюзный, Институт, Магдинец, Маслюк, Проектный, Руднева, Тринд, Химической, Шепельска

МПК: G03C 1/72, G03F 7/00, G03F 7/12 ...

Метки: iсgt, еноеертов, композиция, фонд, фотополимеризующаяся

...и т, п.Известна фотополимеризующаяся композиция для изготовления копировальных слоев на основе эфиров акриловой кислоты в смеси с полиэтиленгликолями. Однако для нее характерна малая светочувствительность копировальных слоев, изготовленных на ее основе, а также низкая устойчивость к истиранию отвержденных слоев,Для повышения светочувствительности композиции и обеспечения износостойкости слоев, изготовленных на ее основе, в качестве фото- сшивающего соединения использован олигоуретанакрилат, а в качестве разбавителя - смесь спирта с ацетоном,Для приготовления светочувствительного копировального слоя в трехгорлый реактор с мешалкой загружают олигоурентанакрилат. Инициатор фотополимеризации растворяют в мономере, и полученный раствор...