Парийская

Прозрачная глазурь

Загрузка...

Номер патента: 1296526

Опубликовано: 15.03.1987

Авторы: Парийская, Петриченко

МПК: C03C 8/02

Метки: глазурь, прозрачная

...1250-1280 1250-1280 950 1000 1040 Продолжительностьобжига, миноднократного 30 30 30 20 20 20 двукратного ТКЛР 10, С, винтервале 20-600 Со 7,45 7,6 20,66 20,63 19,03 Температура обжига, Со Предлагаемая прозрачная глазурьожет быть использована для глаэуроания керамических плиток путем однократного или двукратного обжигапри 950-1040 С,Шихтовой состав прозрачной глазури мас,7.:Фритта 95Глина (весе 0 ловская) 5Компоненты фритты измельчают допрохождения через сито У 1, перемешивают и фриттуют при 1250-1280 С.Выдержка при максимальной температуре варки фритты составляет 30 мин,Помол фритты совместно с глиной осуществляют в шаровой мельнице привлажности 40-437, Готовая глазурьимеет остаток на сите М 0063 0,30,5 Х, плотность глазури...

Светочувствительный материал для изготовления фотоформ

Загрузка...

Номер патента: 875321

Опубликовано: 23.10.1981

Авторы: Бойко, Орлов, Парийская, Погребинская, Портнова, Сафронова, Свириденко, Триндяк

МПК: G03C 1/52

Метки: материал, светочувствительный, фотоформ

...материал позволяет полуЧать фотоформы с высокой точностью ичеткостью штрихового изображения.,П р и м е р 1, Готовят композициюфотополимеризующегося слоя, вес. %:Поливиниловый спирт 5,0Полив инилпирролидон 3,8Метилцеллюлоза 0,074-алппо-дифенилвминс параформальдегидомг 5в виде двойной хлорцинковой соли 0,4Пропиловый спирт 9,0Иода, 82,03На лавсановую основу (полиэтилентере- З,фталатную пленку) наносят с помощью. экструдера композицию фотополимеризующегося слоя и высушивают при температуре 43-47 Й.Толщина светочувствительного покрытия составляет 2,8-3,0 мкм.35фотоформы на предложенном материалеизготавливают следующим образом,После экспонирования пленки черезнегатив либо диапозитив с помощью лампЛУФпроизводят проявление под стру 40ей воды с...

Фотополимеризующаяся композиция для получения предварительно очувствленных формных пластин

Загрузка...

Номер патента: 773564

Опубликовано: 23.10.1980

Авторы: Ахсарова, Егорова, Орлов, Парийская, Паскаль, Сулакова, Сыромятников, Цепенюк

МПК: G03C 1/68

Метки: композиция, очувствленных, пластин, предварительно, формных, фотополимеризующаяся

...стабилизированный 75 бутанолао(4-Тримета- крилатпентаэритрит-ди-(диметакрилпентаэритрит адипинат)Изобутилоный эфир бензоинаРодамин 6 Ж КДМ АцетонИзопропилоный спирт 5,89 11,79 5,92 0,268,12 19,26.Сополимер стирола с метакриловой кислотой ипроизводного малеиновой кислоты, стабилизированный 30бутанолаДиметакриловый эфир этиленгликоляБутиловыйизобутиловыйэфир бензоинаРодамин бЖ КДМАцетонП р и м е р 5. Готовят 50,0580,композисостава, нес.ч.: цию П р и м е р 4. Готовят композицию состава, нес.ч.;773564 13 Сравнительные данные по оценке качества предлагаемой и известной композиций1 Угол смачивания элементов печатной формы, град. Срок ха Элементы тест-объекта, полученные на Формах Пример Времяпроявления отэкспонинения предва- рительно очу-...