Новг

Номер патента: 357545

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Бедова, Глембоцкий, Лазаренко, Новг, Розум, Чорна

МПК: G03F 7/26

Метки: неосвещенных, слоя, удаления, участков, фотополимерного, экспонированного

...слоя на основе смешанных полиамидов вымывают спиртовыми или спирто-водными растворами азотнокислого цинка.Азотнокислый цинк вводят в спиртовые или спирто-водные растворы в количестве 5 - 7 вес, ч. П р и м е р. Фогополимеризующуюся пластину изаотовляют из композиций следующего состава, вес, ч.:Полиамидная смола (25%-ныйраствор в 75%-ном этиловом спирте) 100Акриловая кислота 45 - 60 Диметакрилатэтпленгликоль 20 - 30 Бензоин 0,5 - 1,5 Бензофенон 0,5 в 1,5 Метиленовый синий 0,01 - 0,15 Гидрохинон 0,01 - 0,015 В качестве полиамидной смолы используют 15 смешанные синтетические гетероцепные смолы(например, из Е-капролактама и АГ-соли, Г-капролактама, АГ-соли и СГ-соли в различном соотношении полиамндообразующих смол типа 54,54/10,54,3 Си...