Фотококис

Номер патента: 434062

Опубликовано: 30.06.1974

Авторы: Бедноше, Зайцев, Фотококис

МПК: C03C 8/06

Метки: кислотостойкая, эмаль

...из группы фСаР 2, ХагЯ 1 Рз, МазА 1 Рз, СаО.Цель изобретения - увеличение кислотостойкости эмали при повышенных температурах.Достигается это тем, что она дополнительно 10содержит ЯгО, Т 102, Хг 02 при следующем соотношении компонентов в вес. %:Я 02 65 - 75; А 120 з 0,5 - 4; ИагО 2 - 8,2;К 20 0,1 - 1,8; 1.120 1,5 - 9; В 20 з 0,1 - 4; Сг,О,0,1 - 4, одно соединение из группы фторидов 15СаР ХагЯР ХазА 1 Рз 0,1 - 3; СаО+ЬгО2 - 11; Т 102 0,1 - 5; Хг 02 0,1 - 5.П р и м е р, Состав шликера, вес. ч,:Гранулят эмали 100,0Глина глуховская 3,0 20Молибденовокислыйаммоний 0,25Окись хрома 2,0Тонкомолотый песок 15,0Вода 50,0Рабочие паТонкость(остатопосле пшликер 8 й вес, г/смз 1,67 - 1,72я способность, г 14 - 18 Состав эмали, вес. %: Я 02 67,1;...