F25F 3/08 — F25F 3/08
Устройство для низкотемпературной осушки газа
Номер патента: 983406
Опубликовано: 23.12.1982
Автор: Куликов
МПК: F25F 3/08
Метки: газа, низкотемпературной, осушки
...элементе 4образуются гидраты и лед (твердая фаза),которые отлагаютсяна внутренней поверхности элемента 4, По мере накопления гидратов и льда внутренее сечение элемента 420уменьшается, увеличивается сопротивлениегазовому потоку и, как следствие, увеличивается давление внутри элемента 4, котороеприводит к радиальной и осевой деформации (растяжению) стенок элемента 4. Увеличение поверхности элемента приводит к последовательному отрыву твердой фазы, начиная с краевых частей, от поверхностиэлемента 4, при этом сила сцепления отложений с поверхностью элемента уменьшает 30ся и газовый поток отрывает их и выло.сит в низкотемпературный сепаратор 3,в котором отложения скапливаются, а ос.вобожденный от воды газ отводится по отво.дящему...