F21V 5/02 — призматической формы

Облучатель для копировальных процессов

Загрузка...

Номер патента: 901712

Опубликовано: 30.01.1982

Авторы: Вербицкий, Глазков

МПК: F21V 5/02

Метки: копировальных, облучатель, процессов

...сопряжено с основанием прямоугольного параллелепипеда, а меньшее - с отражателем.Высота прямоугольного параллелепипеда Н определяется по формуле05 а-Х щах( о-у)г е Н - расстояние от верхнего мень"щего основания пирамиды доповерхности копирования;а - большая длина поверхностикопирования;расстоян шего осн от верхнего мен ания пирамиды до и копирования; . ина поверхности де поверхноса - Ьольшая дл пирования Х ковои поверхк поверхности етен Формс1, Облучаоцессов, с а приня ксперти тво ССС1976 льных ль для ко ержащий и торское свидетел а писное Филиал ППП "Патент", г, Ужгород, ул,Проектная,4 3 90171 Х- радиус выходного сечения отражателя;3 - угол наклона боковой поверхности пирамиды к поверхностикопирования, тангенс которого 5должен...

Облучатель для экспонирования фотополимеризующихся пластин

Загрузка...

Номер патента: 1341448

Опубликовано: 30.09.1987

Авторы: Аврус, Белицкая, Белицкий, Бодриков, Дубинский, Цветков, Черная, Щерба

МПК: F21V 5/02

Метки: облучатель, пластин, фотополимеризующихся, экспонирования

...параметров Р и М, получим соотношение сторон нижнего, .большего,основания призматоида, равное С : К =(0,3 - 0,7)А или (1 - 1,5)К,Взаимное расположение облучателяи пластины 5 (фиг. 1) показывает,что проекции длинных сторон основания призматоида и экспонируемой пластины на экспонирующую поверхностьвзаимно перпендикулярны.Зеркальный элемент 4 выполнен вформе двугранного угла, ребро которого направлено вниз, параллельно длинной стороне нижнего основания призматоида и перпендикулярно оси расположенной поц ним лампы.Внутренние поверхности отражателя и отражающего экрана выполнены из диффузно-рассеивающего материала,Облучатель работает следующим образом.Облучатель устанавливают над вакуумной плитой (не показана). На вакуумную плиту...