E04H 3/20 — E04H 3/20

Номер патента: 1214891

Опубликовано: 28.02.1986

Авторы: Будяшкин, Колесникова, Растворцев, Филиппов

МПК: E04H 3/20

Метки: бассейн

...сторону а второй ряд расположенв шахматном порядке относительно первого и относительна насадков, расчоложенных на боковых стенках 1, и направлен в сторону боковых стенок,Устройство для очистки бассейнаработает следующим образом,В гидравлические насадки 6 с направлЯющими элементами . ЛО Оборотнс"циркуляпионнсй системе 5 падают водопроводную воду. При выходе иэ насадков 6 направляющими элементами 7 создается горизонтально направленноетечение с Отрицательными пульсация.1 ИДав ЧЕЯО СК ОЧ Р Пс ъ,. ДШа ОЩИМИзначение неэаиляющей скорас."и и подавляющей биообрастание Образованное течение действует на осаждающисся и уже осевшие на дно частицы, а также на процесс биообрастания, Известно, ,что подьем частиц, осевших на дно, может произойти в...

Номер патента: 1441040

Опубликовано: 30.11.1988

Авторы: Бачурко, Локшин, Максимов, Паис, Прохоров

МПК: E04H 3/20

Метки: бассейн

...клапан 4 для стравливания газа. В донной части ванны 1 размещен клапан 5 для выпуска газа, который связан с источником 6 сжатого газа, например воздуха. Платформа 2 делит объем ванны на две части: объем 7 над платформой 2 и объем 8 под ней, Объемы 7 и 8 соединены между собой верхним 9 и нижним 10 заборными устройствами, между которыми расположены фильтр 11 грубой очистки и фильтр 12 тонкой очистки. Подача воды через них регулируется клапанами 13 - 16.Процесс очистки воды производится следующим образом.Через клапан 5 подается сжатый воздух, который заполняет устройство под платформой 2, создавая воздушную прослойку, которая обеспечивает перепад давления, Когда сила давления под платформой превышает вес платформы 2 и силу трения...