Дмитришак

Номер патента: 1781664

Опубликовано: 15.12.1992

Авторы: Бала, Дмитришак, Стах, Ференц

МПК: G03C 5/02

Метки: процесса, проявления

....тельная площадь растровых элементов рав на 10000, то есть на этом поле буДетсплошное почернение и не будет прозрачных растровых элементов.В зависимости от активности процессапроявления контрольные точки будут пере.25 мещаться. При снижении активности про-цесса проявления контрольные точки будут смещаться в сторону больших экспозиций влево), а при пбвышении активности проявления - в сторону малых экспозиций (впра".30 во), Если на контрольной сенситограммвконтрольные точки перемещаются влевб, это значйт, что нужно повышать температуру раствора, увеличивать время проявлений или вводить подкрепляющую добавку. Если 35 контрольные точки на проверяемой сенситограмме сместились вправо по сравнениЮ с эталонной, то надо снижать активность...

Номер патента: 1602751

Опубликовано: 30.10.1990

Авторы: Дмитришак, Ференц, Шовгенюк

МПК: B41C 1/10

Метки: офсетных, печати, плоской, форм

...и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5Производственно-издательский комбинат "Патент", г,ужгород, ул, Гагарина, 101 ные растровые негативы копируют вконтактно-копировальной раме на пленку ФТ, на которой после химико-фотографической обработки (проявлениев проявителе Дв течение 4 мин ификсирования в кислом Фиксаже в течение 5 мин) получают растровые диапозитивы. Растровые диапозитивы монтируют по заданному макету путем накле Оивания на винипроз или другую проз-рачную основу, Основу монтажа перфо-рируют и нанизывают на приводные штифты, размещенные на монтажном столе.После этого перфорируют еще один листосновы и помещают сверх монтажа. Затем на второй основе делают очертаниякраев растровых диапозитивов...

Номер патента: 1203474

Опубликовано: 07.01.1986

Авторы: Гладка, Дмитришак, Ференц

МПК: G03F 3/06

Метки: маскирования, негативов, цветоделенных

...и го;убой красок оОрр(сировзц.1 цо хроматическим и ахроматически., цветам.и ри использовании и:ображеция цветноймаски для маскироваця цуменьценио хо- М с 1 Т И с С С К И Х КРаСОК В 11 Е ИР с 1. 1 Ь 1 1 Ц - С (. Р Ь Х У Ч а С Т - л ках изображеция опадает цеооходимость в т изготовлении сцециальной д(цгс лнительной ц- маски, в результате снижается расход фото( материалов и цовьпц ается 1 роизводительт- И)сть труда цри изготцвлсчии цветоделенз- цых фотоформ. Формула изобретения 1Изобретение относится к фоторецродук ционным процессам, в частности к способа маскирования цветоделенных растровы негативов, изготовляемых методом прямо растрирования.Целью настоящего изобретения являегс снижение расхода фотоматериалов и сокра шение процесса...