C23B 5/54 — C23B 5/54

Номер патента: 515828

Опубликовано: 30.05.1976

Авторы: Бузников, Линник, Мальцев

МПК: C23B 5/54

Метки: металла, осаждения, селективного, электролитического

...мкм при указанном соотношении наращиваемых толщин (см. фиг.3) . Для изоляции токоведущих дорожек от осаждения наносится защитный диэлектрический слой, например слой фоторсзиста ФП, в котором открываются окна над элементами и на границах разрывов,На контактную площадку 7 подается потенциал и производится осаждение слоя металла Г элсктро,итичесеой ВЯН 11 с с применением Очистки и циркуляции электролита и вращением катода со скоростью 150 - 180 об/мин. Ля 3.с."1 с 11 тс 4 и 1 зя тсво 1, б .115 яишеи к этому элементу, границе разрыва 9 происходит осаждение металла, Остальные элементы 5 ь 6 э,.ектрически отсоединены и осаждение 1 а них не производится. За счет бокового разрастания осажденного слоя на границе р 1;рыва 9 ширина разрыва...