Бузурнюк

Номер патента: 1471874

Опубликовано: 09.02.1995

Авторы: Бузурнюк, Костенко, Манушевич, Мысык, Перельман, Перепичка, Сивченкова

МПК: G03G 5/022, G03G 5/07, G03G 5/09 ...

Метки: информации, носителя, слой, фотопроводящий

ФОТОПРОВОДЯЩИЙ СЛОЙ НОСИТЕЛЯ ИНФОРМАЦИИ, включающий фотопроводник на основе карбазола и сенсибилизатора флуоренового ряда, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества слоя за счет увеличения предельных потенциалов зарядки и светомодуляционной способности при сохранении высокой электрофотографической чувствительности в видимой области спектра, он содержит в качестве фотопроводника сополимер N-эпоксипропилкарбазола с 9 мол.% трет-бутилглицидилового эфира, а в качестве сенсибилизатора - высший алкиловый эфир 2,5,7-тринитрофлуоронон-4-карбоновой кислоты формулыгде Alk - C5H11, изо-C5H11,...

Номер патента: 1583916

Опубликовано: 07.08.1990

Авторы: Барладин, Бузурнюк, Комаров, Панасюк

МПК: G03G 16/00

Метки: информации, носителя, растрированного, рельефографического

...материала термо пластического слоя, что приводит к потере им полимерных свойств, Растрированный термопластический слой после засветки в УФ-излучении становится малочувствительным к действию 45 растворителей, например толуола, и другим внешним факторам. Наносят второй термопластический слой из сополимера стирола с бутилметакрилатом толщиной 1,0 мкм. 0П р и м е р 2, Носитель получают по примеру 1 В качестве растрируемого структурируемого слоя используюттермоппастический слой на основе сополимера бутилметакрипата со стиролом и п-аминостиролом при соотношении компонентов по весу 60 ф 30 ф 10соответственно и толщиной 1,5 мкм,При фиксировании растра путем сплошной засветки термопластического слояультразвуковым излучением ПУФ) завремя от...

Номер патента: 1559325

Опубликовано: 23.04.1990

Авторы: Барладин, Бузурнюк, Комаров, Панасюк

МПК: G03G 13/00, G03G 13/22, G03G 15/00 ...

Метки: информации, носитель, рельефографический

...на него визуализирующего слая проводят по примеру 1,П р и м е р 4, Фоточувствительный слой общей толщиной 2,0 мкм выполняют.из неорганического полупро-.водника, представляющего собой гетероструктуру из Ая Яз и твердогораствора 0,7 АяБ-,0,3 Ая Бп, Растрируемый структурируемый слой приготовляют как в примере 1. Визуализирующий слой толщиной 1,0 мкм готовят из сополимера стирола с октилметакрилатом при их массовом соотношении 70:30.П р и м е р 5. Фоточувствительныйслой толщиной 2,5 мкм из сополимераЗ,б-дибромэпоксипропилкарбазола: иглицидилакрилата берут в соотношении85:1 5 с добавкой 1 5 мас .Х 2, 4,7 тинитрофлуоренона, наносят растрируемый структурируемый слой толщи.ной 1,3 мкм из 85 мас.% сополимера,карбазолилэтилметакрилата с...