B05D 1/04 — с помощью электростатического поля

Номер патента: 1819687

Опубликовано: 07.06.1993

Авторы: Гракович, Кочкин, Красовский, Толстопятов, Ширшова

МПК: B05D 1/04

Метки: ксилилена, покрытия, поли

...и вели до достижениядавления, при котором загорался тлеющийразряд (420 Па). После этого сохранялиустановившийся режим распыления, а давление поддерживали в указанных пределахпутем изменения проходного сечения откачки клапаном.30 Параметр3/Рср изменяли путемизменения тока разряда и мощности лазерадля двух значений площади кратера распыления (сечение луча изменяли путем введения диафрагмы),В сформированных покрытиях определяли тангенс угла диэлектрических потерь,краевой угол смачивания поверхности дистиллированной водой и прочность покрытий, которую характеризовали показателем,равным отношению минимальной нормальной нагрузки на индентор, при которой происходит сдвиг покрытия с подложки, кширине рабочей части индентора.Режимы...

Номер патента: 2002519

Опубликовано: 15.11.1993

Авторы: Гракович, Иванов, Кочкин, Красовский, Толстопятов, Ширшова

МПК: B05D 1/04

Метки: покрытий, поли-n-ксилилена

...энергии от плазмы основной канал выглядит следующим образом: возбуждение молекулы ПДПКускоренным электроном: релаксация электронного 15 возбуждения в колебательное; разложение молекулы ПДПК на 2 молекулы ПК. Таким образом, в данном случае повышения поступательной энергии молекулы не происходит. При этом стенки реактора должны быть 20 нагреты только до температуры 436500 К с целью исключения конденсации ПДПК, что на 400,500 К ниже, чем в известном процессе. Нагрев до температуры выше 500 К не влияет на процесс пленкоосаждения и 25 вызывает бесполезные затраты энергии, Естественно, что энергия, необходимая для нагрева и поддержания температуры в заявляемых пределах, требуется значительно меньший эффект от конструкционныхосо...