Патенты с меткой «вакуул1ного»
Устройство для вакуул1ного нанесения пленок полупроводниковых соединений
Номер патента: 309416
Опубликовано: 01.01.1971
Авторы: Бубнов, Лурье, Токарев
МПК: H01L 21/00
Метки: вакуул1ного, нанесения, пленок, полупроводниковых, соединений
...изобретения состоит в разработке устройства для нанесения в вакууме пленок полупроводниковых соединений, которое позволило бы получить пленки стехиометрического состава и структуры.Поставленная цель достигается тем, что в устройстве, содержащем замкнутую камеру, подложку и нагреватель, выбираются такие соотношения геометрических размеров камеры и температурных режимов, которые обеспечивают осаждение пленок из газодинамического потока в условиях малого пересыщения пара и интенсивного реиспаренич ма ас подложки и стенок камеры.Согласно теоретическому расчету и экспериментальной проверке, для полупроводниковых5 соединений групп АпВ" и Ап Б отношениедлины камеры к ее диаметру составляет 0,5 -1,5 при градиенте температуры вдоль...