Патенты с меткой «отражательная»

Номер патента: 1672394

Опубликовано: 23.08.1991

Авторы: Михалишин, Самарян

МПК: G02B 5/04

Метки: отражательная, призма

...образом.Линейно поляризованный пучок света 4с электрическим вектором Е падает на входную грань 3. На грани 1 он претерпевает неполное отражение, поскольку материалы призмы и нанесенного на нее покрытия подобраны таким образом, что угол полного внутреннего отражения о)р, больше угла падения луча света на отражающую грань 1, который равен 450. Далее пучок 4 претерпевает неполное отражение и на грани 2, Благодаря наличию микронеровностей на внешней границе покрытия устраняются условия для возникновения интерференции в нем, Сохранение линейной поляризации ,отраженного пучка 5 обусловлено тем, что при частичном отражении света от гранйЦь)1672394 Составитель В.Кравченкоктор Е.Полионова Техред М.Моргентал К орре кто вку каз 2838 ВНИИПИ...

Номер патента: 1688330

Опубликовано: 30.10.1991

Авторы: Бей, Синюшин, Хандамиров

МПК: H01Q 3/46

Метки: антенная, диаграммы, направленности, отражательная, решетка, сканированием, электрическим

...и достаточно большого активного сопротивления(20 кОм), а в другом состоянии малое активное сопротивление (единицы Ом), В случае использования оптоэлектронных ключей подложка выполняется из полупроводника, например кремния, Эквивалентные параметры р-и-диодов сообща 1 отся в их паспортных данных, а эквивалентные параметры оптоэлектронного ключа можно рассчитать, зная размеры полоскав, зазора в полоске и параметры подложки, включая концентрацик) неравновесных носителей в двух состояниях.Отражательная антенная решетка работает следующим образом.Облучатель 5 облучает полотно антенной решетки. Каждый элемент раскрыва, соответствующий определенному вибратору 1, фазируется таким образом, чтобы сфокусировать отраженную электромагнитную волну в...

Номер патента: 1728653

Опубликовано: 23.04.1992

Авторы: Зубенко, Коняхин, Панков

МПК: G01B 11/26

Метки: оптико-электронного, отражательная, скручивания, угла, устройства

...зеркала наблюдается при любых значениях угла а, кроме а= в 90, где в,1,2., Если предположить, что ребро двугранного зеркала совпадает с плоскостью действия анаморфозы системы клиньев или перпендикулярно ей, то уменьшенное (или увеличенное) в А раз изображение марки. образующееся после прохождения пучком анаморфозной системы в прямом ходе, не претерпевает изменений в пространстве после отражения зеркалом и после прохождения в обратном ходе анаморфозной системы, увеличившись (или уменьшившись) в А раз, приобретает вид исходной марки. В этом случае отсутствует изменение формы изображения и устройство непригодно для определения угла скручивания р, При любых других значениях а изображение марки, получившееся после двукратного...