Патенты с меткой «линзовыхрастров»

Номер патента: 267845

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Гребенников, Гусев, Перцев, Поль

МПК: C03B 13/08

Метки: линзовыхрастров

...в нз.ности линз растра при этом стоты поверхности матрицы, ишь чистотой поверхносги ПредхУстройство для из ов, содержащее ма очей поверхности т.гичаюгиееея тем, олучения растров с тоянием, канавки шающую толщину ени гет линзовых авками н в виде п ю возмож фокусны бину, п раста ралиты, ности г рас- ревыготовления трицу с кан и пуансон то, с цель различным гмеют гчх инз растра но устастров,с присоединением заявкиПриоритет Изобретение может быть применено при изготовлении мелкоструктурных линзовых растров, используемых для растровой стереографии, высокоскоростных камер и т. д.Известные устройства аналогичного назначения содержат матрицу с канавками и пуансон в виде плиты. Рельеф канавок при формовании полностью воспроизводится на формуемом...

Номер патента: 411427

Опубликовано: 15.01.1974

Авторы: Бродолин, Драчев, Кан, Левочкин

МПК: G03F 5/00

Метки: диафрагмированных, линзовыхрастров

...стороны к толщине не более пяти.Затем чеканят зеркальную поверхность ша риком, Чтобы получить сферические микрозеркала высокого качества, расстояние между краями отпечатков должно составлять от 10 до 30% от шага растра для растров с относительным отверстием микролинз от 1: 8 до 10 1:4. Чеканка производится на координатномстоле микроскопа, фотоштампа, снабженного микроподачей стола, Обязателен визуальный контроль диаметров отпечатков или промекутков между отпечатками в процессе че канки. Для диафрагмирования, цель которогоуменьшить пар азитную засветку через промежутки между лунками, также используют 20 процесс чеканки. В этом случае ее осуществляют конусом с малым радиусом кривизны (несколько мкм). Глубина чеканки составляет несколько...

Номер патента: 818914

Опубликовано: 07.04.1981

Автор: Саркисян

МПК: B41M 3/06

Метки: дляпрессования, линзовыхрастров, матрицы, прозрачных

...растра.В зависимости от желаемой оптической емкости толщину этого слоя следует выбирать в пределах (0,1 - 0,25) д, где д - диаметр проволоки. С увеличением толщины слоя оптическая емкость увеличивается, но 5 уменьшается угол оглядывания.Таким образом получают откорректированную модель линзового растра. На поверхность первого гальваноотложения 5 также гальваноспособом наращивается ра- О бочий слой 6 матрицы, например, из никеля или хрома.Далее следуют операции закрепления рабочего слоя 6 на подставке. При этом .возможны различные варианты, два из ко торых описываются ниже,В первом варианте (фиг. 3) наращенный слой 6 шлифуется на плоскошлифовальном станке так, чтобы обеспечить точную параллельность шлифованной поверхности 20 и...