Патенты с меткой «фторидселективного»
Способ изготовления мембраны фторидселективного электрода
Номер патента: 1702280
Опубликовано: 30.12.1991
Авторы: Вернер, Лотар, Мартин, Петер, Томас, Ханс
МПК: G01N 27/333
Метки: мембраны, фторидселективного, электрода
...проводимости благодаря незначительной толщине напыленного слояабаз, Толщина слоя чувствительной мембраны должна составлять от 20 до 5000 нм, Оптимальная температура подложки в процессе изготовления мембра, ны свыше 280 С, Для подложки возможно.применение большого числа различных материалов при условии хорошего качества их поверхности, Средняя высота неровности профиля подложки не должна превышать 50 нм, чтобы обеспечить гомогенность мембраны и исключить тем самым нестабильности потенциала. Граничный слой к мембране может быть образован металлом, его солью, полупроводником или изолятором, Кроме того, подложка может иметь структуру, состоящую из нескольких слоев этих материалов, Для обеспечения функционирования мембраны важным...