Патенты с меткой «фотомасок»

Номер патента: 714431

Опубликовано: 05.02.1980

Авторы: Афанасьев, Малашонок, Михайлов, Чернявский

МПК: G06K 9/00

Метки: дефектоскопии, интегральных, пластин, схем, фотомасок

...расширения лазерного пучка, предметную плос-. кость 3, В которОЙ находится бездефектная или дефектная фотомаска интегральных схем, 2 О объектив 4, выполняющий прямое преобразование Фурье, двойной пространственный фильтр 5, состоящий из крестообразного непрозрачного фильтра и фотопластинки, служащей в качестве фильтра вйсокйх частот, объектив 6, выпол. йяющий обратное преобразование Фурье, и регисхрирующую систему 7.Устройство работает следующим. образом.РаСширенный колпиматором 2 параллельный пучок-снета от оптического квантового генера ЗО тора 1 освещает бездефектную фотомаСку иитегральиых схем 3, расположенную в передней фокальной плоскости объектива 4. Объектив 4 формирует в задней фокапьиой плоскм- ти Фурье-образ изображения...