Патенты с меткой «двулучепреломляющий»

Номер патента: 530301

Опубликовано: 30.09.1976

Авторы: Дричко, Лейкин

МПК: G02B 5/30

Метки: двулучепреломляющий, компенсатор, оптический

...компонента дисперснэй двулучепреломления и снабжен механизмом перемещения кинематически связанным с механизмом перемещения клинового компонента.В отличие от компенсатора Солейля предлагаемый компенсатор имеет неравномерное поле, поэтому за компенсатором установлена реперная нить, неподвижная относительно 20 корпуса, и окуляр, через который производится наблюдение интерференционной картины н совмещение компенсационной полосы с нитью (так же, как этэ делается в компенсатэре Бабине). 25Изготовление компэнентов компенсатора из разных двулучепреломляюших материалов и возможность регулирования соотношения их тэлщин путем изменения передаточного отношения позволяет задавать значение дисперсии двулучепреломления компенсатора, а одновременнэе...

Номер патента: 1700513

Опубликовано: 23.12.1991

Автор: Дричко

МПК: G02B 5/30

Метки: двулучепреломляющий, компенсатор

...+5 интерференционных порядков и погрешностью измерений 2 нм имеет клинья с углом 37, При прохождении через компенсатор, представленный на фиг,1, пучок отклоняется на угол 2 а(п.1), где и - показатель преломления, Поскольку это отклонение небольшое (как правило, меньше 1 ) в большинстве задач, для решения которых используют компенсатор, оно не влияет ни на точность, ни на другие характеристики прибора. Однако в некоторых случаях компенсатор устанавливается в оптическую схему, где отклонение пучка недопустимо, так как снижает точность измерений. В основном это схемные решения, в которых компенсатор в процессе измерения поворачивается относительно неподвижной плоскости изображения, Это в свою очередь приводит к тому, что измеренное...

Номер патента: 1351422

Опубликовано: 30.01.1994

Авторы: Бондарев, Качанов, Кобцев

МПК: G02B 27/48

Метки: волны, генерации, двулучепреломляющий, длины, лазеров, селектор

ДВУЛУЧЕПРЕЛОМЛЯЮЩИЙ СЕЛЕКТОР ДЛИНЫ ВОЛНЫ ГЕНЕРАЦИИ ЛАЗЕРОВ, содержащий стопу плоскопараллельных пластинок из одноосного кристалла, установленных под углом Брюстера к оптической оси селектора с возможностью синхронного разворота вокруг нормалей к их поверхностям, причем кристаллические оптические оси пластинок ориентированы по отношению к этим нормалям под одинаковым углом , отличающийся тем, что, с целью сохранения максимальной селективности при перестройке во всем рабочем диапазоне, угол между нормалью и оптической осью пластинок определяется из соотношения