Способ регулирования процесса электрического обогащения сыпучих смесей

Эзультате чего изменяется форма распределения напряженности поля и тока разряда в зоне действия электрического поля на материал.Дополнительно регулируя напряженность магнитного поля в зависимости от регулирующего сигнала датчика, можно добиться удовлетворительной, выравненной формы распределения напряженности поля и тока разряда, обеспечивающей высокую эффекти вность обогащения. 10Рассмотрим способ регулирования на пример обогащения титансодержашего концентрата в переоборудованном коронном (барабанном) электросепараторе. Устройство, осуществляющее предлагаемый способ ре гулирования, содержит установленный под питателем 1 с возможностью вращения заземленный осадительный электрод 2, коронирующий электрод 3, установленный над поверхностью осадительного электрода 2 и подключенный к источнику 4 высокого напря жения, щетку 5 и приемники 6 и 7 обогащенных фракций А и В. Одна из обогащенных фракций А (проводниковая) или В (непроводниковая) снабжена датчиком 8, формирующим регулирующий сигнал в зависимости от содержания ценного продукта в обогащенной фракции А или В (от содержания проводника в проводниковой фракции А или непроводника в непроводниковой фракции В). Формирование регулирующего сигнала заключается в том, что одну из обогащенных фракций, например А, разряжают, транспортируют к датчику, измеряют среднее значение координаты места попадания частиц и по разности между текущим и постоянно заданным значениями координаты попадания формируют регулирующий сигнал. Это равносильно определению содержания ценного продукта в обогащенной фракции и формированию регулирующего сигнала по разности между полученным и заданным значениями содержания ценного продукта в обогащенной. 40 фракции А.Данное устройство снабжено дополнитель; ным источником 9 питания и подключенной к нему системой электромагнитов 10, установленных между коронирующим 3 и осадительным 2 электродами по обе стороны оси 00 проходящей через центры коронирующего 3 и осадительного 2 электродов, причем плоскости витков 5 катушек электромагнитов 10 параллельны указанной оси 00, Снабжение устройства системой электромагнитов, установленных указанным образом и подключенных к источнику 9 питания, позволяет наложить в области электрического поля магнитное поле, вектор напряженности которого будет перпендикулярен вектору напряженности электрического поля, и позволяет дополнительно, кроме регулирования напряженности электрического поля в зависимости от регулирующего сигнала датчика 8 одной из обогащенных фракций, например А, регулировать напряженность магнитного поля в зависимости от регулирующего сигнала того же датчика 8, т. е. позволяет осуществить предлагаемый способ регулирования.Способ осуществляют следующим образом.Частицы сыпучего материала из питателя 1 поступают на поверхность осадительного электрода (барабана) 2. При вращении барабан 2 переносит частицы на ее поверхность к месту расположения коронирующего электрода 3 и к системе электромагнитов 10. Подачей потенциала от источника 4 высокого напряжения на коронирующий электрод 3 между коронирующим 3 и осадительным 2 электродами создают электрическое поле. Подачей напряжения от источника 9 питания на систему электромагнитов 10 в области электрического поля накладывают магнитное поле, вектор напряженности которого будет перпендикулярен вектору напряженности электрического поля. Под действием электрического поля частицы сыпучего материала заряжаются от носителей заряда (электронов, ионов), движущихся по силовым линиям поля от коронирующего электрода 3 к осадительному 2,Под действием магнитного поля носители заряда (электроны, ионы), движущиеся к обогашаемым частицам сыпучего материала, изменяют направление движения, не меняя величины заряда, т. е. перераспределяется поток носителей заряда, концентрируясь вокруг оси 00, в результате чего изменяется форма распределения напряженности электрического поля и тока разряда в зоне действия поля на материал. На частицы, находящиеся в зоне электрического поля, действует равнодействующая электрической и механических сил, В то же время индукция магнитного поля выбирается такой, чтобы она была недостаточной для воздействия на частицы обогащаемого материала. Равнодействующая сил будет иметь разное направление для проводящих и диэлектрических частиц из-за разного направления электрической силы (разных знаков зарядов, приобретаемых проводящими и диэлектрическими частицами), за счет чего происходит разделение частиц по проводимости, т. е. материал обогащается за счет разницы в проводимостях частиц смеси. Проводящие частицы отрываются от поверхности барабана 2 раньше, чем диэлектрические и попадают в приемник 6 проводниковой фракции А. Диэлектрические частицы снимаются щеткой 5 с поверхности барабана 2 и попадают в приемник 7 непроводниковой фракции В. Таким образом осуществляется электрическое обогащение сыпучего материала.Формула изобретения 10 5После обогащения части материала получают две обогащенные фракции А и В. С помощью датчика 8 одной из обогащенных фракций, например А, формируется регулируюший сигнал датчика 8 по разности между полученным в результате обогашения содержанием ценного продукта в обогашенной фракции А и заданным значением содержания ценного продукта. Регулируюший сигнал датчика 8 обогащенной фракции А воздействует на потенциал коронируюшего электрода, изменяя (увеличивая) его, тем самым изменяя напряженность поля в зоне действия на материал, Регулирующий сигнал того же датчика 8 воздействует также на напряжение источника питания системы электромагнитов, изменяя (увеличивая) его, тем самым изменяя напряженность магнитного поля и выравнивая форму распределения напряженности электрического поля и тока разряда в зоне действия на материал. Так продолжается до тех пор, пока содержание ценного продукта во фракции А не достигнет заданного значения ценного продукта во фракции, Если содержание ценного продукта во фракции А достигнет заданного значения, то регулирование завершается и устройство продЬлжает работу в отрегулированном режиме (напряженностях полей), обеспечивающем высокую эффективность обогащения.Диапазон напряженностей электрического поля при электрическом обогащении 4 - 6 кВ/см. Такой же диапазон напряженностей полей 4 - 6 кВ/см при обогащении титансодержашего концентрата. Индукция магнитного поля до 1 10Тл в зоне взаимодействия магнитного поля с носителями заряда (электронами, ионами) найдена, исходя из равенства электрической силы Р =еЕ и магнитной силы Е" =еГВ, действующей на носитель заряда.Таким образом, по сравнению с известным предлагаемый способ регулирования позволяет повысить эффективность процесса обогашения. Способ регулирования процесса электрического обогащения сыпучих смесей, заключаюшийся в регулировании величины напряженности электрического поля в зависимости от разности между заданным и текущим значениями содержания ценного продукта одной из обогащенных фракций, отличающийся тем, что, с целью повышения эффективности за счет разделения, форми. руют магнитное поле и накладывают его в области электрического поля так, чтобы вектор напряженности магнитного поля был перпендикулярен вектору напряженности электрического поля, а его величина недостаточна для воздействия на частицы сыпучих смесей, регулируют напряженность магнитного поля в зависимости от разности между заданным и текушим значениями содержания ценного продукта данной обогатительной фракции, а форму напряженности электрического поля регулируют изменением магнитного поля до тех пор, пока не будет устранена разность между заданным и текущим значениями содержания ценного продукта данной фракции.1629104 Составитель И. НТехред А. КравчукТираж 330 Пата ССР ИИПИ Государственного комитета по113035, Москва, Ж - 35 Производственно-издательский комбина ина, 1 О Редактор Н. ТуЗаказ 399 обретениям Раущская Патент, г