Установка для поверхностной обработки полимерных пленок

Номер патента: 1391933

Авторы: Островский, Сарваниди, Фрезоргер

ZIP архив

Текст

(53) 6 56) Ав У 51700Пове Перевод о СССР1973. ел7 бработк тмасс о. Л. 54)(57) УСТ БРАБОТКИ ПОЛ жащая щелевуюбогреваемую ней озанат ОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССРО ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТКРЫТИЙ А ВТОРСКОМУ СВ НОВКА Д 1 И ПОВЕРХНОСТНОЙ ИМЕРНЬИ ПЛЕНОК, содерголовку экструдера, камеру с установленными рами и окислительнуюванну, о т л и ч а ю щ а я с я тем,что, с целью повышения качества обработки пленок за счет стабилизацииокисленности их поверхности, онаснабжена управляющим элементом, датчиком окисленности поверхности пленки, установленным на выходе из окислительной ванны и соединенным с первым входом управляющего элемента,датчиком концентрации окислителя вокислительной ванне, соединенным свторым входом управляющего элемента,датчиком концентрации озона в обогреваемой камере, соединенным с третьимвходом управляющего элемента, регулятором концентрации окислителя в окислительной ванне, соединенным с первымвыходом управляющего элемента, второйвыход которого соединен с озонаторами.Изобретение относится к изготовлению полимерных пленочных матерна;лов и может быть использовано в про цессе изготовления полимерных пленок5 методом экструзии в бумажно-тарной, химической промышленности, машинос строении и других отраслях.Цель изобретения - повышение качества обработки пленок за счет ста- О , билизации окисленности их поверхнос ти.На чертеже схематично показана ; предлагаемая установка для поверхно-. стной обработки полимерных пленок.Установка содержит обогреваемую камеру 1, озонаторы 2, установленные в обогреваемой камере 1, окислительную ванну 3, датчик 4 окисленности поверхности полимерной пленки, регу О лятор 5 скорости движения пленки 6, управляющий элемент 7, датчик 8 концентрации окислителя 9 в окислительной ванне 3, датчик 1 О концентрации озона в обогреваемой камере 1, регулятор 11 концентрации окислителя, дат. чик 12 толщины полимерной пленки 6. Регулятор 11 состоит из питающей емкости 3, соединенной с окислительной ванной 3 посредством регулятора 14 расхода концентрата из емкости 13. Установка содержит также щелевую головку 15 экструдера, истекающая из которой полимерная пленка 6 отводится посредством направляющих роликов 16. Датчик 4 окисленности поверхности пленки соединен с первым входом управляющего элемента. 7, датчик 8 концентрации окислителя соединен с вторым входом управляющего элемента 7, датчик 1 О концентрации озона со-., единен с третьим входом управляющего элемента 7, а датчик 12 толщины пленки соединен с четвертым входом управ"- ляющего элемента 7. Регулятор 11 концентрации окислителя соединен с первым выходом управляющего элемента 7, второй выход которого соединен с озонаторами 2, а третий выход - с ре гулятором 5 скорости движения пленки.Установка работает следующим образом.Полимерная пленка 6, истекая из щелевой головки 15 экструдера, протягивается роликами 16 через обогреваемую камеру 1 с установленными в ней озонаторами 2, где ее поверхность подвергается воздействию ожна. Затем пленка 6 поступает в окислительную ванну 3, где обрабатывается окислителем и далее - к узлу намотки (непоказан). Датчик 4 окисленностиполимерной пленки контролирует качество обработки пленки 6. Датчик 8контролирует концентрацию окислителя9 в ванне 3, датчик О контролируетконцентрацию озона в обогреваемойкамере 1, а датчик 12 измеряет толщину полимерной пленки 6. Сигналы сдатчиков 4,8,10 и 12 заводятся вуправляющий элемент 7, где осуществ.ляется их сравнение с заданнымн значениями контролируемых параметров ивырабатывается управляющее воздействие, которое поступает в задающиецепи озонаторов 2, регулятора 5 скорости движения пленки 6 и регулятора11 концентрации окислителя 9 в ванне3 В случае уменьшения степени окис-; ленности пленки 6 сигнал отрицатель" ного отклонения с датчика 4 поступает в управляющий элемент 7, который через задающие цепи озонаторов 2 и регулятора 11 увеличивает в обогреваемой камере 1 концентрацию озона за счет увеличения мощности излучения озонаторов 2 и повышает процентное содержание окислителя в окислительной ванне 3 прн поступлении высококонценФ- рированного раствора окислителя из питающей емкости 13 регулятора 11 в окнслительную ванну 3 таким обра". зом, чтобы степень окисленности пленки поверхности 6 поднялась до заданного значения, При этом количество концентрата, поступающего из питающей емкости 3 в окислительную ванну 3, регулируется регулятором 14 расхода концентрата в соответствии с устав,; - ками управляющего элемента 7, 1 ри откпонении толщины пленки от заданного значения, связанном с изменением вязкостных характеристик перерабаты ваемого полимера и вызванном колебаниями производительности экструдера, соответствующий сигнал с датчика 12 поступает в управляющий элемент 7, который и вырабатывает задание на регулятор 5 скорости движения пленки 6 и изменяет скорость отбора пленки таким образом, чтобы толщина пленки приняла заданное значение, Одновременно с этим вырабатываются управляющие воздействия на регулятор 1 и озонаторы 2.3 13919При увеличении толщины пленки 6 управляющий элемент 7 в соответствии с сигналом датчика 12 увеличивает скорость отбора пленки 6 посредством5 регулятора 5 и увеличивает концентрацию озона в обогреваемой камере 1 и окислителя в окислительной ванне 3, вырабатывая уставки на озонаторы 2 й регулятор 11.1011 ри уменьшении толщины пленки 6 ниже нормы, управляющий элемент 7 посредством регулятора 5 уменьшает скорость движения пленки 6, а для снижения энергоемкости процесса выра батывает управляющее воздействие, направленное на уменьшение интенсивнос" ти работы озонаторов 2.В случае уменьшения при заданной скорости движения пленки 6, концент-; рации озона в обогреваемой камере вследствие утечек и концентрации окислителя в окислительной ванне 3 вследствие уноса части окислителя с пленкой 6 ниже минимально допустимой 25 нормы. Сигналы отрицательного откло-: нения концентрации с датчиков 10 и 8, поступающие в управляющий элемент 7, начинают увеличивать уставки концентрации озона в обогреваемой камере З 0 1 и окислителя в окислительной ванне 3 до тех пор, пока концентрация озона 334и окислителя не примет заданное значение, обеспечивающее необходимоекачество обработки пленки 6,Поскольку время прохождения пленки 6 через обогреваемую камеру 1 иокислительную ванну 3 исчисляется до."лями секунды, то строгое поддержаниеконцентрации озона в обогреваемойкамере окислителя в окислительной ванне 3 на заданном уровне способствуеткачественной обработке пленки 6.Отклонение регулируемых параметровот заданных значений в предлагаемойустановке, относящейся к системамзамкнутого регулирования, в установив -шемся режиме равно .:;статическойошибке и может регулироваться величиной коэФАициента усиления управляющего элемента 7,Использование предлагаемого изобретения позволит повысить качествопленочных материалов, получаемых методом экструзии, за счет улучшения качества поверхностной обработки пленокпутем стабилизации окисленности поверхности пленки и уменьшить энергоемкость процесса обработки за счетавтоматического выбора режима обработки при нестабильности вязкостныхсвойств сырья, а также при переходена сырье других партий и марок,,ВНИИПИ Гос по делам 113035, Москвдарственно иэобретениЖ, Ра Подписикомитета СССи открытийская наб., д.

Смотреть

Заявка

3951184, 03.09.1985

СЕМИПАЛАТИНСКИЙ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ МЯСНОЙ И МОЛОЧНОЙ ПРОМЫШЛЕННОСТИ

ФРЕЗОРГЕР АНАТОЛИЙ ДАВЫДОВИЧ, САРВАНИДИ АЛЕКСАНДР ГЕОРГИЕВИЧ, ОСТРОВСКИЙ ЯКОВ БОРИСОВИЧ

МПК / Метки

МПК: B29C 47/92, B29C 71/00, B29D 7/01

Метки: пленок, поверхностной, полимерных

Опубликовано: 30.04.1988

Код ссылки

<a href="https://patents.su/4-1391933-ustanovka-dlya-poverkhnostnojj-obrabotki-polimernykh-plenok.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Установка для поверхностной обработки полимерных пленок</a>

Похожие патенты