Система управления корректировкой растворов ванн химического фосфатирования

О В:И СА Н И Е ИЗЬБРЕТЕН ИЯ Союз СоветскихСоцналнстнцескнхРесяубянкГесударстмем юате Сеевта Мевтраа СС в делам иэобратееФ н етхрыткв1 эаоритет 43) Опублнковано 18.10.78,оюллетень . ) Дата опубликования описания 15.09.7 5 З) УДК 621.7(54) СИСТЕМА УПРАВЛЕНИЯ КОРРЕ РАСТВОРОВ ВАНИ ХИМИЧЕСКОГО ОСФ АНИЯ Изобретение относится к области гальванотехннки, в частности к устройствам автоматического управления концентрацией компонентов технологических растворов ванн химического фосфатирования.Известна система управления корректировкой растворов ванн химического фосфатировання, содержащая устройства измерения определяющих фнзико-химических параметров, рН растворов, концентрации компонентов, дознрующне устройства и управляю 1 цее вычислительное устройство, состоящее нэ устройства ввода, процессора и устройства вывода, подключенное своими вхо. дами к выходам датчиков, а выходами к до- . зирующнм устройствам 111.Недостатком известного устройства является низкая точность регулирования со- става растворов и качество покрытий.Цель изобретения - повышение точности регулирования состава раствора н качества покрытий,Поставленная цель достигается тем, что система дополнительно снабжена датчиком счета покрываемых деталей, контурами регулирования температуры н уровня, устройством регулирования длительности нане 2сения покрытий, причем выходы датчика сче.та, датчиков температуры и уровня и устройство регулирования длительности нанесенияпокрытий соединены со входами управляющего вычислительного устройства,На чертеже приведена функциональнаясхема системы управления.Система управления корректировкойванн фосфатирования состоит иэ участка 1фосфатнрования изделий, рабочих ванн 2с одинаковым составом раствора, входящихв состав автоматических линий фосфатирования (не показаны), измерительного уст-.ройства 3 контура управления температурой,устройства 4 регулирования длительностьюнанесения покрытий, датчика счета деталей 5узла 6 централизованной корректировки растт 5 воров, включающего циркуляцнонный бак 7,фильтр 8, насос 9, измерительное устройство 10 контура управления уровнем, дозирующне устройства 11 вводимых компонентов,емкости 12 с вводимыми компонентами, клапан 13, насос 14, отстойник 15, клапан 16для сброса осадка в канализацию; управляющего устройства 7, реализованного набазе мини- илн микро-УВМ, включающегоустройство 18 ввода аналоговой и дискрет628184 ного значения, открывается клапан 3 и насосом 4 раствор из циркуляцнонного ба.ка перекачивается в отстойник 15, где раствор отстаивается в течение определенного времени (прнблизительно 1 сут,), шлам выл падает в осадок, а раствор перекачиваетсяобратно в циркуляцнонный бак 7,формула изобретения 3ной информации, процессора 19 и устройства вывода 20 управляющих сигналов как аналоговых, так и дискретных,Работает система управления корректировкой растворов ванн фосфатирования следующим образом.После приготовления фосфатного раствора последним заполняется цнркуляционный бак до заданного уровня, включаетсянасос 9 и раствор через фильтр 8 для удаления твердых примесей подается в рабочие ванны с одинаковым составом раствораи индивидуальным нагревом автоматическихлинкИ (не показаны) фосфатирования ротор. ного или, операторного типа.. Рабочие ванны соединены каскадно между собой, Избыток раствора из .последней иванны сливается в трубопровод 21 и самотеком поступает в циркуляционный бак 7, .Циркуляция раствора в рабочих ваннах осуществляется, как правило, со скоростью0,5 - 3;0 объема в час, Клапаны 22 предназначены для аварийного сброса фосфатного раствора в циркуляционный бак,При поступлении деталей в загрузочныеустройства (не показаны) автоматическихлиний с выхода, установленных там датчи.ков 5 счета деталей илн группы деталейпоявляется сигнал, по которому происходитзаписьв содержимое. счетчиков соответствующих модулей ввода число-импульс.ных сигналов устройства: 18 УВМ нли вячейки памяти ОЗУ УВМ, С устройств 3 и 4вводится в УВМ информация о текущих зна ЗОчениях температуры н длительности нанесения покрытий.На основании поступающей в нее инфор-мации УЙМ, согласно заложенного в нееалгоритма, рассчитывает объемное истощение раствора, которое пропорционально произведению площади .покрытых деталей наосредненный во времени удельный объемныйрасход соответствующих компонентов раствора с учетом текущих значений температуры и длительности нанесения покрытий, 40При достижении физического объемногоистощения раствора заданного значения,фиксированного ранее, сигналы с устройства 20 вывода управляющих сигналов УВМ.поступают на вход дозирующих устройстви происходит корректировка раствора соот 45ветствующими компонентами.При дальнейших расчетах раствор считается восстановленным по данному компо..ненту.При достижении в растворе содержаниядвухвалентного железа (шлама) определенВ осадок в отстойнике заливается вода. С помощью сжатого воздуха производится вспучивание осадка и во взвешенном состоянии через открытый клапан 16 он сливается в канализацию. Так как фосфатирование деталей производится, как правило, в горячих растворах, то,зная суммарный объем, заданный уровень расхода раствора в циркуляционном баке, поверхность испарения, скорость испарения, компонентов раствора, время испарения, текущий объем (уровень), можно определить объем свежего раствора, который надо до. бавить, чтобы .скомпенсировать неизбежные потери раствора от утечки и уноса деталями при фосфатировании нли эквивалентное количество компонентов. Система управления корректировкой растворов ванн химического фосфатирования, содержащая устройства измерения определяющих физико-химических параметров, например, рН растворов, концентрации компонентов, дозирующие устройства н управляющее вычислительное устройство, состоящее из устройства ввода, процессора и устройства вывода, подключенного своими входами к выходам датчиков, а выходами к дозирующнм устройствам, огличамнцееся тем, что, с целью повышения точности регулирования состава раствора и качества покрытий, она дополнительно снабжена датчика. мн счета покрываемых деталей, контурами регулирования температуры и уровня, устрой. ством регулирования длительностью нанесения покрытиИ, причем выходы датчика счета, датчиков температуры и уровня и устройство регулирования длительности нанесения покрытий соединены со входами управляющего вычислительного устройства,Источники информации, принятые во внимание при экспертизе:1, Авторское свидетельство СССР514276, кл, б 05 Р 1/00, 1974.СССР венного комитета Совета Министро ам изобретений и открытий ква, Ж.35, Раушская наб. д. 415 Патента, г. Ужгород, ул, Проектн 4 Редактор Н, БатановаЗаказ 5744/23ЦНИИПИ Государспо дел113035 МосФилиал ППП Составитель.А. АбТехред О. ЛуговаяТираж 738 имов Корректор Л. Веселовск Подписное