Зеркальная бинокулярная лупа

Номер патента: 1760511

Опубликовано: 07.09.1992

Автор: Черний

МПК: G02B 21/00, G02B 25/00

Метки: изображения, объекта, увеличенного

...1, включающий лампу накаливания 2, светофильтр 3 молочного света,конденсатор 4 и диафрагму 5 с круглым точечным отверстием,Световой поток, генерируемый точечным световым источником 1, расходящимсяпучком б освещает положительную линзу 7.Для упрощения положительная линза 7 показана в форме плоско-выпуклой линзы, Вреальном устройстве целесообразно применить сложную оптическую систему, изгоговленную из нескольких линз с различнымпоказателем преломления и радиусом кривизны сферической поверхности, что даетвозможность значительно исправить хроматическую и сферическую аберрации, После преломления в линзе 7 световая волнапроходит через обьект исследования 8 и 20частично эатемняется им, в результате чегона сетчатке 9 глаза 10 наблюдателя...

Номер патента: 1645925

Опубликовано: 30.04.1991

Авторы: Буцевицкий, Курчинская, Пржевалинский, Усоскин, Цыцаров

МПК: G02B 23/00

Метки: бинокулярного, наблюдения, опалар-бл, оптическая, прибора

...4 Линейный размер поля, мм 45 Диаметр выходного зрачка, мм 4 Удаление выходного зрачка, мм 20 Передний рабочий отрезок, мм 265 Длина оптической системы, мм 55 Оси каждой наблюдательной оптической системы наклонены друг к другу и в точке схождения осей располагается объект. Каждая оптическая система состоит из объектива, приэменной оборэчивэющей системы и окуляра и представляет собой микроскоп слабого увеличения.Выходной зрачок расположен на расстоянии 20 мм от последней поверхности окуляра. Соотношение сил окуляра и расстояние между объективом и окуляром позволяет получить входной зрачок всей системы перед объективом на незначительном расстоянии. Поэтому в объективе можно исправить сферическую аберрацию, кому и хроматизм положения,...

Номер патента: 1734067

Опубликовано: 15.05.1992

Авторы: Авдеев, Дарченко, Куренкова, Скрипаль, Тупикин, Усанов

МПК: G02B 21/18

Метки: изображений, наблюдения

...клиновидных пластин р определяется выражением 15 б =(2 р+ - ) 19 А 2(3) Максимальный угол поворота зеркалак иф" 4 агс 9 (4) (фиг,2). Возможен вариант совмещения компенсирующей клиновидной пластины с отражающим элементом (зеркалом). В этом случае отражающее покрытие нанесено на одну из 25 сторон клиновидной пластины.Клиновидная пластина, установленная на поверхности предметного столика сбоку от объекта 2, создает второй канал изображения, направляя изображение боковой по верхности объекта вдоль оптической оси микроскопа 1. Клиновидная пластина с отражающим покрытием расположена в исходном положении под углом 45 О в оптической оси микроскопа и обращена к 35 объекту прозрачной гранью(фиг.3). Поворот клиновидной пластины относительно...

Номер патента: 135180

Опубликовано: 01.01.1961

Автор: Ветощук

МПК: A61N 5/00

Метки: изображения, оптического, размеров, рентгеновском, увеличения, экране

...пуклая или на таким о рентгеновск Известны способы увеличения рентгеновского изображения путем увеличения расстояния между объектом и экраном при применении трубок с весьма малым фокусом или с помощью электронно-оптического преобразователя в сочетании с телевизором.Предлагаемый способ оптического увеличения размеров изображения на рентгеновском экране позволяет лучше видеть патологические изменения при рентгеноскопии, а также более наглядно демонстрировать их во время занятий со слушателями или студентами. Увеличение изображения достигается применением двояковыпуклой или плосковыпуклой линзы, прикрепленной к рентгеновскому экрану при помощи кронштейна, обеспечивающего фиксацию линзы и постоянство расстояния между линзой и экраном,При...

Номер патента: 125850

Опубликовано: 01.01.1960

Автор: Кирлиан

МПК: H01J 40/18

Метки: изображений, увеличенных

...укреплен винтом 6 на приливе 7 колбы 8, В гнезда 9, выполненные в диэлектрике, помещакгт экспонируемые ооъекты, электрически соединяемые с обкладкой 4. При повороте днэлек 1 рика 5Лц 125850гнезда 9 с объектом могут быль установлеигя над отверстием 10, иаходящимся в центре прилива 7 колбы 8. Прилив 7 предельно прищлифован к диэлектрику 5 и снабжен выступающими шайбами, которые обеспечивают защиту от поверхностных высокочастотных разрядов.При подаче импульсов токов высокой частоты на обкладки 3 и 4 при вакууме в колбе 8 порядка 3.10 з и 8.10 - "мм рт. ст, между обкладками 3 и 4 образуется высокочастотное электрическое поле. У обкладки 4 (катод) генерируются ионы, которые двигаются согласно конфигурации электрического поля к обкладке 3...